ST0048 Alvo de pulverização de tântalo (alvo de pulverização de Ta)

Descrição do alvo de pulverização de tântalo

A Stanford Advanced Materials (SAM) é conhecida por fornecer alvos de pulverização de tântalo de alta qualidade. Esses alvos meticulosamente elaborados são feitos de tântalo excepcionalmente puro, garantindo uma composição consistente e confiável. A densidade notável do material aumenta a eficiência da pulverização catódica e resulta em uma melhor adesão do filme. A excepcional estabilidade térmica do tântalo permite que os alvos suportem aquecimento extremo durante a pulverização, tornando-os adequados para uma variedade de processos de alta temperatura. Além disso, a excepcional resistência à corrosão do material garante que os alvos mantenham sua integridade, mesmo sob as condições de pulverização mais desafiadoras - os baixos níveis de impurezas e o teor de gás no tântalo resultam em qualidade e uniformidade superiores do filme. Além disso, a facilidade de usinagem do material permite a modelagem precisa de acordo com as necessidades específicas da aplicação. Graças a essas propriedades excepcionais, os alvos de pulverização catódica de tântalo se tornaram o material preferido para depositar filmes de tântalo em diversos setores, incluindo eletrônicos, ópticos, energia solar de película fina e armazenamento magnético. Sua adaptabilidade e confiabilidade fazem deles um componente vital em vários processos de deposição por pulverização catódica.

Especificações do alvo de pulverização de tântalo

1. Especificação修改

Aplicações do alvo de pulverização de tântalo

1. Eletrônicos: Os alvos de pulverização de tântalo são amplamente utilizados na indústria eletrônica para a deposição de filmes de tântalo em circuitos integrados, capacitores e outros componentes microeletrônicos. A alta pureza e a resistência à corrosão do tântalo o tornam um material ideal para essas aplicações.

2. Óptica: Os alvos de pulverização de tântalo também são usados no setor óptico para a deposição de filmes de tântalo em componentes ópticos, como lentes e espelhos. A alta transparência e a dureza do tântalo o tornam adequado para essa aplicação.

3. Energia solar de película fina: Os alvos de pulverização de tântalo são empregados na produção de células solares de película fina. A deposição de filmes de tântalo em células solares aumenta sua eficiência e confiabilidade.

4. Armazenamento magnético: No setor de armazenamento magnético, os alvos de pulverização catódica de tântalo são usados para depositar filmes de tântalo em discos e fitas magnéticas, melhorando sua durabilidade e desempenho.

5. Revestimentos decorativos: Devido à aparência atraente do tântalo, os alvos de pulverização de tântalo também são usados na produção de revestimentos decorativos para vários produtos de consumo, como joias e relógios.

Embalagem do alvo de pulverização de tântalo

Nossos produtos são embalados em caixas de papelão personalizadas de vários tamanhos com base nas dimensões do material. Os itens pequenos são embalados com segurança em caixas PP, enquanto os itens maiores são colocados em caixas de madeira personalizadas. Asseguramos o cumprimento rigoroso da personalização da embalagem e o uso de materiais de amortecimento adequados para oferecer a melhor proteção durante o transporte.

Embalagem: Caixa de papelão, caixa de madeira ou personalizada.

Processo de fabricação

1. Processo de fabricação

2. Métodos de análise elementar

• Análise de elementos metálicos: Conduzida usando ICP-OES (Espectrometria de Emissão Óptica de Plasma Acoplado Indutivamente).
• Análise de elementos gasosos: Conduzida usando a análise LECO.

Perguntas frequentes sobre alvos de pulverização de tântalo

Os alvos de sputtering de tântalo podem ser colados em uma placa de apoio?

Sim, os alvos de pulverização de tântalo podem ser colados a placas de apoio de cobre usando métodos de colagem de índio ou elastômero.

Há algum requisito especial de armazenamento ou manuseio para alvos de sputtering de tântalo?

Os alvos de sputtering de tântalo devem ser armazenados em um ambiente limpo e seco para evitar a contaminação da superfície.

Qual é o método de sputtering recomendado para alvos de tântalo?

A pulverização catódica com magnetron DC é o método mais comumente usado para depositar filmes de tântalo.