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O que podemos esperar da técnica de pulverização catódica no futuro?

A técnica de sputtering remonta a 1842. Ela foi observada pela primeira vez por Grove durante seu estudo da corrosão do cátodo em tubos de vácuo. Grove observou que os materiais do cátodo haviam migrado para as paredes dos tubos de vácuo. Entretanto, o mecanismo físico subjacente da pulverização catódica não foi compreendido devido às limitações dos primeiros equipamentos experimentais.

Foi somente na década de 1970 que a tecnologia de pulverização catódica por magnetron surgiu, marcando um avanço significativo. Atualmente, a tecnologia de pulverização catódica está bem estabelecida e é amplamente utilizada em vários setores. Ela desempenha um papel crucial em campos como semicondutores, energia fotovoltaica e telas.

Indústria de semicondutores

O setor de semicondutores é vital para a eletrônica moderna. Ele se concentra na criação de circuitos integrados (ICs), que são usados em vários dispositivos eletrônicos. Com o avanço da tecnologia, a demanda por alvos de sputtering de alta pureza aumentou. Esses alvos são usados no processo de fabricação de CIs.

Os CIs são compostos por várias camadas, incluindo substratos, camadas de isolamento, camadas de mídia, camadas condutoras e camadas protetoras. Cada uma dessas camadas depende da tecnologia de revestimento por pulverização catódica. À medida que os CIs se tornam mais complexos e os tamanhos dos dispositivos diminuem, os alvos de pulverização são essenciais para a produção desses circuitos.

Os alvos de sputtering de alta pureza são essenciais para a fabricação de CIs avançados. Eles garantem a qualidade e o desempenho dos produtos eletrônicos finais.

Semiconductor Industry

Indústria de telas planas (FPD)

O revestimento é essencial para a fabricação de telas planas modernas (FPDs). Quase todos os FPDs usam materiais revestidos para criar filmes funcionais. Esse processo de revestimento garante camadas de filme uniformes em grandes áreas, aumenta a produtividade e reduz os custos. Os alvos de pulverização são os principais materiais usados nesses revestimentos.

A qualidade dos FPDs, incluindo sua resolução e transmitância, depende dos filmes pulverizados. Na fabricação de FPDs, o sputtering produz substratos de vidro ITO (óxido de índio e estanho). Esses substratos são revestidos e processados para produzir painéis LCD, PDP e OLED.

Para telas sensíveis ao toque, o vidro ITO é processado posteriormente para criar eletrodos. Em seguida, ele é montado com telas de proteção e outros componentes. Os revestimentos de filme também são aplicados para aprimorar recursos como antirreflexo em produtos de tela.

Setor de energia solar

No setor de energia solar, os alvos de pulverização catódica são essenciais para a fabricação de células solares. Os materiais de alvo comuns incluem alumínio, cobre, molibdênio, cromo, ITO e AZO. Esses alvos geralmente têm uma pureza de mais de 99,99%. Cada material tem uma função específica:

  • Alumínio e cobre: Usados para camadas condutoras.

  • Molibdênio e cromo: Usados para camadas de bloqueio.

  • ITO e AZO: usados para camadas condutoras transparentes.

O crescimento das instalações de energia solar fotovoltaica (PV) está se acelerando em todo o mundo. O setor de células solares está se expandindo e se tornando mais global. Espera-se que os mercados emergentes desempenhem um papel maior nesse crescimento nos próximos anos.

Conclusão

À medida que a tecnologia de sputtering avança e suas aplicações se expandem, empresas como a Stanford Advanced Materials (SAM) desempenham um papel fundamental. A SAM é especializada no fornecimento de alvos de sputtering de alta qualidade e soluções relacionadas. Seu foco é desenvolver e fornecer alvos de sputtering de alta pureza para os setores de semicondutores, telas planas e energia solar.

Os materiais e tecnologias avançados da SAM impulsionam o progresso do setor e oferecem suporte confiável a seus clientes. Olhando para o futuro, espera-se que a SAM continue contribuindo significativamente para a tecnologia de sputtering. Eles continuarão apoiando avanços e inovações em várias aplicações tecnológicas.

Sobre o autor

Chin Trento

Chin Trento é bacharel em química aplicada pela Universidade de Illinois. Sua formação educacional lhe dá uma ampla base para abordar muitos tópicos. Ele trabalha com a escrita de materiais avançados há mais de quatro anos na Stanford Advanced Materials (SAM). Seu principal objetivo ao escrever esses artigos é oferecer um recurso gratuito, porém de qualidade, para os leitores. Ele agradece o feedback sobre erros de digitação, erros ou diferenças de opinião que os leitores encontrarem.

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