Descrição dos materiais de evaporação de siliceto de háfnio
O material de evaporação de siliceto de háfnio, fornecido pela Stanford Advanced Materials, representa um notável material de evaporação de cerâmica de siliceto com a fórmula química HfSi2. A importância dos materiais de evaporação de HfSi2 de alta pureza nos processos de deposição não pode ser subestimada, pois eles garantem a deposição de filmes de alta qualidade. A Stanford Advanced Materials (SAM) é especializada na produção de materiais de evaporação com níveis de pureza de até 99,9995%, apoiados por rigorosos processos de garantia de qualidade que asseguram a máxima confiabilidade do produto.
Especificação de materiais de evaporação de siliceto de háfnio
Especificação |
Descrição do material |
Tipo de material |
Silicato de háfnio(IV) |
Símbolo |
HfSi2 |
Aparência/Cor |
Cristal tetragonal |
Ponto de fusão |
2.758 °C (4.996 °F; 3.031 K) |
Densidade |
7,0 g/cm³ |
Pureza |
99.5% |
Formas disponíveis |
Pó, grânulo, feito sob medida |
Aplicação de materiais de evaporação de siliceto de háfnio
Os materiais de evaporação de siliceto de háfnio encontram ampla aplicação em processos de deposição, abrangendo a deposição de semicondutores, a deposição de vapor químico (CVD) e a deposição de vapor físico (PVD). Sua principal utilidade está no campo da óptica, abrangendo proteção contra desgaste, revestimentos decorativos e avanços nas tecnologias de exibição.
Embalagem de materiais de evaporação de siliceto de háfnio
Na Stanford Advanced Materials (SAM), priorizamos a identificação eficiente e o controle de qualidade dos nossos materiais de evaporação de siliceto de háfnio. Esses materiais são meticulosamente etiquetados e rotulados externamente, refletindo nosso compromisso de evitar qualquer dano potencial durante o armazenamento ou o transporte.