Oferecemos materiais de evaporação de óxido de háfnio (HfO2) em várias formas. Formas personalizadas também estão disponíveis mediante solicitação. A Stanford Advanced Materials (SAM) é líder na fabricação e no fornecimento de materiais de evaporação de óxido de háfnio de alta pureza e de uma ampla variedade de materiais de evaporação.
Descrição dos materiais de evaporação de óxido de háfnio (HfO2)
Os materiais de evaporação de óxido de háfnio (HfO2) são utilizados em processos de deposição de filmes finos para fabricar revestimentos com propriedades elétricas, ópticas ou dielétricas personalizáveis. Conhecidos por sua alta constante dielétrica, estabilidade térmica e amplo bandgap, os filmes de HfO2 são essenciais na fabricação de semicondutores, especialmente para aplicações dielétricas de porta em transistores CMOS avançados. Além disso, os filmes de óxido de háfnio são usados em revestimentos ópticos, dielétricos de alto k e aplicações em capacitores, contribuindo para o avanço da eletrônica, da óptica e da nanotecnologia.
Especificação de materiais de evaporação de óxido de háfnio (HfO2)
Tipo de material
Óxido de háfnio
Símbolo
HfO2
Peso molecular
210.49
Cor/aparência
Esbranquiçado
Ponto de fusão (°C)
2,810
Coeficiente de expansão térmica
5,6 x 10-6/K
Densidade teórica (g/cc)
9.68
Materiais de evaporação de óxido de háfnio (HfO2) Aplicações
- Usado em processos de deposição de filmes finos de óxido de háfnio , incluindo deposição de semicondutores, deposição de vapor químico (CVD) e deposição de vapor físico (PVD).
- Usado para óptica, incluindo proteção contra desgaste, revestimentos decorativos e telas.
Embalagem de materiais de evaporação de óxido de háfnio (HfO2)
Nossos materiais de evaporação de óxido de há fnio (HfO2) são cuidadosamente manuseados para evitar danos durante o armazenamento e o transporte e para preservar a qualidade de nossos produtos em sua condição original.
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