CY9467 Substrato de níquel de cristal único Substrato de níquel (100), 10x10x0,5 mm, SSP

Substrato de níquel monocristalino Substrato de níquel (100), 10x10x0,5 mm, SSP Descrição

Substrato de níquel monocristalino Substrato de níquel (100), 10x10x0,5 mm, SSP é um substrato de níquel monocristalino de alta pureza, caracterizado por uma orientação (100). A área de 10x10 mm e a espessura de 0,5 mm garantem a compatibilidade com o equipamento padrão de processamento de semicondutores. O substrato apresenta defeitos de rede mínimos, proporcionando uma plataforma estável para deposição epitaxial e fabricação de dispositivos em camadas. Sua orientação cristalográfica controlada suporta o transporte uniforme de elétrons e a planaridade da superfície, essenciais para a fabricação de precisão.

Substrato de níquel monocristalino Substrato de níquel (100), 10x10x0,5 mm, aplicações SSP

Aplicações eletrônicas
- Usado como substrato em dispositivos microeletrônicos para obter características elétricas uniformes, aproveitando sua orientação controlada (100).
- Aplicado como base para a deposição de camadas epitaxiais em sistemas semicondutores para aumentar a coerência do cristal por meio da minimização das imperfeições da rede.

Aplicações industriais
- Serve como um componente estrutural em sensores de precisão para obter um desempenho de sinal consistente, aproveitando sua espessura uniforme e integridade cristalina.

Substrato monocristalino de níquel Substrato de Ni (100), 10x10x0,5 mm, embalagem SSP

Cada substrato é embalado em um recipiente antiestático revestido de espuma e preso em uma caixa plástica selada para evitar impacto mecânico e contaminação. Os pacotes de dessecante mantêm uma condição de baixa umidade durante o transporte e o armazenamento. A embalagem recomenda um ambiente com temperatura controlada. Opções de embalagens personalizadas, incluindo compartimentação e rotulagem específica, estão disponíveis mediante solicitação para atender a protocolos rigorosos de manuseio.

Perguntas frequentes

P1: Qual método é usado para verificar a orientação cristalográfica (100) do substrato?
R1: A análise de difração de raios X é empregada para confirmar a orientação (100). Esse método fornece um perfil detalhado da estrutura cristalina, garantindo a uniformidade em todo o substrato e a conformidade com os padrões técnicos essenciais.

P2: Como a espessura uniforme de 0,5 mm do substrato afeta o desempenho do processamento?
A2: A espessura consistente de 0,5 mm promove um comportamento térmico previsível durante o processamento e permite a deposição uniforme na fabricação de semicondutores, reduzindo assim a variação do processo e melhorando o desempenho geral do dispositivo.

P3: Que precauções de manuseio são recomendadas durante a integração do substrato?
R3: É recomendável usar ferramentas e luvas antiestáticas ao manusear o substrato. Além disso, a manutenção de um ambiente de sala limpa e o uso de embalagens protetoras adequadas minimizam o risco de danos mecânicos e contaminação por partículas.

Informações adicionais

Os substratos de níquel são componentes essenciais em várias aplicações de processamento eletrônico devido às suas propriedades térmicas estáveis e resistência à oxidação. A estrutura de cristal único minimiza os efeitos de contorno de grão, oferecendo suporte ao controle preciso sobre o transporte de elétrons e a estabilidade mecânica em dispositivos de microescala.

Na pesquisa de materiais avançados, esses substratos fornecem uma plataforma essencial para o crescimento epitaxial e a deposição de filmes finos. Técnicas analíticas, como difração de raios X e microscopia eletrônica de varredura, permitem a verificação rigorosa da qualidade do cristal, apoiando a reprodutibilidade aprimorada do processo em configurações experimentais e de produção.