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SM14006 Wafer epitaxial de silício (Si Epi Wafer)

Número de catálogo. SM14006
Formulário Wafer epitaxial

Wafer epitaxial de silício (Si Epi Wafer) é uma camada de silício fabricada usando métodos de crescimento epitaxial controlado em um substrato. A Stanford Advanced Materials (SAM) emprega técnicas avançadas de deposição de vapor químico combinadas com análise de superfície via SEM para minimizar as densidades de defeitos. O processo inclui tratamentos térmicos calibrados para garantir a formação de camadas uniformes. O controle de qualidade sistemático da SAM em toda a produção produz wafers adequados para a fabricação de dispositivos semicondutores.
Produtos relacionados: Wafer epitaxial de safira, Wafer de silício, Wafer de carbeto de silício

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Silicon Epitaxial Wafer (Si Epi Wafer)
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Wafer epitaxial
 
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APS
30nm, 100nm
Pureza
99.99%
Densidade a granel
1.24 g/cm3
Morfologia
Cristalino
Cor
Cinza
Fórmula química
Si
Número CAS
7440-21-3
 
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Pureza
99%–99,999%
Densidade a granel
1,24 g/cm³
Morfologia
Cristalino
Cor
Cinza
Fórmula química
Sim
Número CAS
7440-21-3
Tamanho da partícula
1–1.000 µm, personalizado
 
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Material
Silício (Si) (tipo N)
Pureza
99.9% ~ 99.999%
Forma
Pó/grânulo/ personalizado
Sinônimos
Pellets de Si tipo N, Pellets de Silício tipo N

FAQ

Como o processo de crescimento epitaxial melhora o desempenho do dispositivo?

O processo de crescimento epitaxial garante uma deposição uniforme e controlada de camadas de silício, o que minimiza os defeitos e melhora as propriedades elétricas dos dispositivos semicondutores. Essa consistência ajuda a obter uma operação estável do dispositivo e reduz as correntes de fuga em circuitos integrados.

Qual é o impacto da uniformidade da espessura do wafer na fabricação de semicondutores?

A espessura consistente do wafer é essencial para manter a uniformidade do processo durante a fotolitografia e a gravação. Ela minimiza a variabilidade do processo, garantindo que os padrões do circuito sejam reproduzidos com precisão, o que é essencial para o alto rendimento na fabricação de dispositivos.

Quais práticas de manuseio ajudam a manter a integridade dos wafers epitaxiais de silício?

A manutenção de um ambiente com baixo teor de poeira e temperatura controlada e o uso de embalagens antiestáticas e com amortecimento de vibrações durante o armazenamento e o transporte minimizam as tensões mecânicas e a contaminação. Essas práticas protegem a integridade da superfície do wafer durante as etapas críticas de processamento. Entre em contato conosco para obter mais detalhes sobre o manuseio.

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