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  • ST11165 Alvo planar de prata, alvo Ag

    • ST11165 Alvo planar de prata, alvo Ag

    Número de catálogo. ST11165
    Composição Ag
    Pureza ≥99.99%
    Formulário Alvo
    Forma Retangular
    Dimensões Personalizado

    O alvo planar de prata, Ag Target, é um alvo de sputtering de prata fabricado com prata de alta pureza e uma superfície plana planar para deposição eficaz de filmes finos. A Stanford Advanced Materials (SAM) emprega análise espectroscópica e imagens de SEM durante a produção para monitorar a consistência microestrutural. Esse processo de controle de qualidade minimiza as impurezas e as variações dimensionais, garantindo o desempenho do alvo em aplicações que exigem características de deposição controladas. As instalações da SAM também incorporam escaneamento a laser para verificação dimensional precisa.

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    Silver Planar Target, Ag Target
    Silver Planar Target, Ag Target
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    ST11165 Alvo planar de prata, alvo Ag
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    Composição
    Ag
    Pureza
    ≥99.99%
    Formulário
    Alvo
    Forma
    Retangular
    Dimensões
    Personalizado
     
    AP1972 Espuma de prata Ag Foam
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    Material
    Ag
    Porosidade
    ≥85 %
    Espessura
    0,8 a 5 mm, ou personalizado
    Formulário
    Espuma
     
    SV2021 Nanofios de prata (Ag) (Nº CAS: 7440-22-4)
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    Pureza
    >99.5 %
    Aparência
    Suspensão ou pó cinza
    Sinônimos
    Nanofibras de prata, prata, nanofios de Ag, nanofios de Ag
     
    AG2027 Fio de ligação de prata (Ag)
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    Material
    Prata pura (Ag)
    Pureza
    2N-4N
    Diâmetro
    15-50μm
    Comprimento
    300-500m

    FAQ

    Quais considerações de processamento são críticas ao usar alvos de pulverização de prata?

    Os principais fatores incluem a manutenção de uma superfície de alvo limpa e o controle da temperatura e da pressão da câmara de pulverização. A inspeção regular usando microscopia eletrônica ajuda a garantir a uniformidade da superfície e minimiza possíveis defeitos de deposição. Entre em contato conosco para obter estratégias detalhadas de otimização de processos.

    Como a microestrutura influencia o desempenho de um alvo de pulverização de prata?

    Uma microestrutura uniforme aumenta a consistência da pulverização, reduzindo a erosão localizada e garantindo a deposição uniforme do filme. As variações no tamanho dos grãos podem afetar a taxa de pulverização e a uniformidade do filme. O uso do SEM e da perfilometria pode verificar a integridade do alvo para aplicações de alto desempenho.

    Quais protocolos de limpeza são recomendados antes de operar alvos de sputtering de prata?

    Os procedimentos típicos incluem limpeza com solvente e pré-tratamento com plasma para remover óxidos e contaminantes da superfície. Esses métodos melhoram a adesão do filme e a qualidade da deposição. A inspeção rotineira da superfície por meio de análise espectroscópica é recomendada para proteger o desempenho.

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    SV3441 Malha Prata, Malha de Prata
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    NN4145 Nanopartículas de prata (Ag) (prata coloidal) (CAS No.: 7440-22-4)
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    Silver (Ag) Single Crystal
    AG5389 Prata (Ag) Monocristalino
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    Silver Membrane
    FT5408 Membrana de prata (Ag)
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    Silver Single Crystal Substrate Ag Crystal Substrate <100>, 10x10x0.5 mm, SSP
    CY9435 Substrato de cristal único de prata Substrato de cristal de prata (100), 10x10x0,5 mm, SSP
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