ST11166 Alvo planar de alumínio, Alvo Al

Descrição do alvo planar de alumínio, Al Target

O alvo planar de alumínio, Al Target, é um alvo de sputtering de alumínio fabricado com controle rigoroso sobre as dimensões planares e o acabamento da superfície. As dimensões personalizadas garantem a compatibilidade com uma ampla gama de sistemas de deposição, enquanto o alumínio de alta pureza minimiza as inclusões que poderiam afetar a uniformidade do filme. Esse produto foi projetado para otimizar o desempenho de sputtering em aplicações de revestimento óptico e de semicondutores.

Alvo planar de alumínio, características do alvo de Al

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Alvo planar de alumínio, Alvo de Alumínio Aplicações

Eletrônicos
- Usado como alvo de sputtering na fabricação de semicondutores para obter filmes finos uniformes, aproveitando sua superfície plana controlada.
- Aplicado como fonte de deposição em processos microeletrônicos para manter a uniformidade e a espessura precisas do filme.

Industrial
- Empregado em energia fotovoltaica como alvo de sputtering para obter revestimentos consistentes em grandes áreas por meio de suas propriedades controladas de material.
- Utilizado em sistemas de revestimento óptico para fornecer uma camada uniforme de alumínio, resolvendo problemas de deposição irregular e melhorando o desempenho do componente.

Alvo planar de alumínio, embalagem do alvo de alumínio

O alvo planar de alumínio é embalado em uma embalagem protetora antiestática e fixado com espuma para atenuar o choque físico e evitar contaminação. Recomenda-se o armazenamento em um ambiente seco e com temperatura controlada para manter a integridade da superfície. Opções de embalagem personalizadas, incluindo bolsas que podem ser fechadas novamente e etiquetas com a marca, estão disponíveis para atender a requisitos específicos de manuseio e logística.

Informações adicionais

Os alvos de pulverização catódica de alumínio desempenham um papel fundamental nos processos de deposição de filmes finos em vários setores. A superfície plana controlada e as dimensões personalizadas permitem a formação precisa de camadas e a uniformidade aprimorada da cobertura, o que é fundamental para aplicações eletrônicas e ópticas. O processamento de materiais e as técnicas de controle de qualidade, como a microscopia eletrônica e a verificação dimensional, garantem que o produto atenda aos padrões técnicos exigentes.

É essencial entender a interação entre a pureza do material e o desempenho da deposição. Técnicas avançadas de usinagem e purificação minimizam o risco de defeitos durante o processamento, melhorando assim a qualidade do filme. Essa visão mais ampla da ciência dos materiais ressalta a importância de controles de produção rigorosos para obter o desempenho ideal dos alvos de sputtering de alumínio.