ST11176 Alvo planar de cobalto, alvo de cobalto

Descrição do alvo planar de cobalto, alvo de Co

O alvo planar de cobalto, Co, é fabricado com cobalto elementar (Co) com dimensões personalizadas para atender a diversos requisitos do sistema de pulverização catódica. O alvo foi projetado para promover a distribuição uniforme do plasma e a deposição consistente do filme. Sua composição química e propriedades físicas controladas minimizam a geração de partículas durante a pulverização, garantindo a consistência do desempenho em aplicações de processamento de semicondutores e revestimentos.

Características do alvo planar de cobalto, Co

As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Alvo planar de cobalto, aplicações de alvo de cobalto

1.eletrônicos
- Usado como alvo de pulverização na deposição de semicondutores para obter uma formação de filme uniforme, aproveitando a composição controlada de cobalto.
- Aplicado na fabricação de dispositivos de armazenamento magnético para obter propriedades magnéticas consistentes por meio do controle preciso da espessura do revestimento.

2.industrial
- Empregado em sistemas de revestimento para camadas resistentes ao desgaste para melhorar a durabilidade da superfície, utilizando o alto ponto de fusão do cobalto.
- Utilizado como componente em filtros de filme fino para sistemas ópticos para obter controle preciso da densidade e desempenho aprimorado.

3.automotivo
- Utilizado na deposição de revestimentos decorativos em componentes internos para garantir aparência e adesão uniformes usando uma composição de alvo consistente.

Alvo planar de cobalto, embalagem do alvo de Co

O alvo é embalado com materiais antiestáticos e resistentes à umidade e colocado em um recipiente rígido e absorvente de choque. A folha protetora e as inserções de espuma evitam a contaminação por partículas e danos mecânicos. A embalagem é projetada para armazenamento em um ambiente controlado, garantindo que não haja alterações nas propriedades do material. Opções de embalagens personalizadas, incluindo etiquetagem e contêineres compartimentados, estão disponíveis mediante solicitação.

Informações adicionais

Os alvos de sputtering de cobalto desempenham um papel fundamental nas tecnologias de deposição de filmes finos usadas em microeletrônica e engenharia de superfície. O processamento controlado de cobalto em alvos planares é essencial para manter um ambiente de plasma estável durante a pulverização, o que é fundamental para obter uma uniformidade de filme de alta qualidade.

Os avanços na ciência dos materiais e nas tecnologias de usinagem precisa permitiram a produção de alvos com rigorosas tolerâncias dimensionais e de composição. Essas melhorias facilitam o desempenho aprimorado em aplicações que exigem alta precisão e eficiência, contribuindo para o sucesso operacional nos setores de semicondutores, industrial e automotivo.