ST11208 Alvo planar de silício, alvo de Si

Descrição do alvo planar de silício, alvo de Si

O alvo planar de silício, Si Target, é fabricado com silício de alta pureza e apresenta uma superfície meticulosamente plana, necessária para a deposição consistente de filmes em processos de pulverização catódica. Suas dimensões personalizadas garantem a compatibilidade com o equipamento padrão de semicondutores, enquanto a planicidade controlada minimiza os efeitos de borda durante a pulverização. Essas características melhoram a uniformidade da deposição e otimizam o desempenho dos dispositivos à base de silício na fabricação de semicondutores.

Características do alvo planar de silício, alvo de Si

As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Aplicações do alvo planar de silício, alvo de Si

Eletrônicos
- Usado como alvo de pulverização na fabricação de semicondutores para obter deposição uniforme de filme de silício, aproveitando seu acabamento planar controlado.
- Aplicado como fonte de deposição para materiais de porta na fabricação de transistores para aumentar a consistência do dispositivo.

Industrial
- Empregado em processos de revestimento de filmes finos para a fabricação de células solares para otimizar a eficiência da conversão de energia, garantindo uma camada uniforme de silício.
- Usado como fonte em aplicações de pesquisa para desenvolver materiais avançados com propriedades eletrônicas personalizadas, devido às suas dimensões customizáveis.

Alvo planar de silício, embalagem de alvo de Si

O alvo planar de silício, alvo de Si, é embalado com materiais limpos e antiestáticos e colocado com segurança em recipientes rígidos revestidos de espuma para evitar estresse mecânico e contaminação. O design da embalagem suporta condições de armazenamento controladas, incluindo regulação de temperatura e controle de umidade. Opções adicionais de personalização, como vedação a vácuo e contêineres compartimentados, estão disponíveis para atender a requisitos específicos de armazenamento e transporte.

Informações adicionais

O silício continua sendo um material crucial na ciência dos materiais e no processamento de semicondutores devido às suas propriedades eletrônicas inerentes e à sua abundância. Os alvos de pulverização derivados do silício são fundamentais para os processos de deposição de filmes finos usados na fabricação de circuitos integrados e dispositivos optoeletrônicos. Os avanços nas técnicas de deposição continuam a expandir os limites do desempenho do material em tecnologias de semicondutores de nível superior.

Além disso, a compreensão da relação entre a pureza do material, o acabamento da superfície e a eficiência da pulverização catódica é essencial para a otimização do processo. A caracterização detalhada e o controle de qualidade afetam significativamente a confiabilidade dos filmes resultantes, apoiando a pesquisa e o desenvolvimento contínuos em vários setores industriais.