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  • ST11214 Alvo planar de tântalo, alvo Ta

    • ST11214 Alvo planar de tântalo, alvo Ta

    Número de catálogo. ST11214
    Composição Ta
    Pureza ≥99,95%, ou personalizado
    Formulário Alvo
    Forma Retangular
    Dimensões Personalizado

    O alvo planar de tântalo, Ta Target, é um alvo de sputtering fabricado com tântalo de alta pureza para processos de deposição de filmes finos. A Stanford Advanced Materials (SAM) utiliza fundição automatizada e limpeza ultrassônica de precisão, juntamente com inspeções de microscopia eletrônica para controle de qualidade. O processo da SAM minimiza os defeitos microestruturais e, ao mesmo tempo, garante uma composição uniforme, apoiando assim a deposição eficiente em sistemas de pulverização industrial.

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    Tantalum Planar Target, Ta Target
    Tantalum Planar Target, Ta Target
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    ST11214 Alvo planar de tântalo, alvo Ta
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    Composição
    Ta
    Pureza
    ≥99,95%, ou personalizado
    Formulário
    Alvo
    Forma
    Retangular
    Dimensões
    Personalizado
     
    TA0001 Lingote de tântalo (Ta Ingot)
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    Dimensões
    Diâmetro 70-195 mm Comprimento <=1600 mm
    Material
    R05200 R05400
    Número CAS
    7440-25-7
    Padrão
    ASTM B364-92
    Pureza
    >=99,9% ou 99,95%
     
    TA0002 Folha de tântalo, tira de tântalo
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    Material
    R05200 R05400
    Padrão
    ASTM B708-98
    Pureza
    ≥99,9% ou 99,95%
    Sinônimos
    Folha de tântalo, fita de tântalo
     
    TA0003 Folha de tântalo, placa de tântalo
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    Dimensões
    Espessura 0,5-10 mm, Largura 50-1000 mm, Comprimento 50-2000 mm
    Pureza
    ≥99,9% ou 99,95%
    Padrão
    ASTM B708, ISO 13782, EN 59972, DIN 17848
    Grau
    UNS R05200, UNS R05400
    Formulário
    Folha/Placa
    Sinônimos
    Folha de tântalo, placa de tântalo

    FAQ

    Como a pureza do tântalo afeta a uniformidade da pulverização?

    A pureza elevada reduz os níveis de inclusão, o que minimiza a geração de partículas durante o sputtering. Essa consistência na composição do alvo ajuda a garantir a deposição uniforme de filmes finos nos substratos. Entre em contato conosco para obter mais detalhes técnicos.

    Que medidas de controle de qualidade são aplicadas para detectar defeitos microestruturais?

    O SAM emprega técnicas de microscopia eletrônica e inspeção ultrassônica para identificar irregularidades microestruturais. Essas medidas facilitam a detecção precoce de defeitos, garantindo que a integridade da superfície do alvo atenda às rigorosas exigências das aplicações de pulverização catódica.

    A personalização das dimensões do alvo é viável para sistemas específicos de pulverização catódica?

    Sim, as dimensões e as especificações relacionadas são personalizáveis para acomodar vários projetos de sistemas de pulverização catódica. Essa flexibilidade permite a utilização ideal do alvo e o ajuste do processo na fabricação de semicondutores e em outras aplicações de deposição de filmes finos.

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    TA0002 Folha de tântalo, tira de tântalo
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    Tantalum Sheet, Tantalum Plate
    TA0003 Folha de tântalo, placa de tântalo
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    TA0004 Tantalum Tube/Tantalum Pipe (Ta Tube/Ta Pipe)
    TA0004 Tubo de tântalo (Ta)
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    Tantalum Bar, Tantalum Rod
    TA0005 Barra de tântalo, haste de tântalo
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    Tantalum Wire
    TA0006 Fio de tântalo (Fio de Ta)
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    sc/1744365421-TA0007.jpg
    TA0007 Disco de tântalo (Ta Disc)
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    Tantalum Mesh
    TA0008 Malha de tântalo (malha de Ta)
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