ST11214 Alvo planar de tântalo, alvo Ta

Descrição do alvo planar de tântalo, alvo Ta

O alvo planar de tântalo, alvo Ta, é fabricado com tântalo de alta pureza com um acabamento de superfície planar cuidadosamente controlado e otimizado para pulverização catódica. As dimensões sob medida do produto garantem a compatibilidade com os sistemas de deposição padrão, enquanto sua microestrutura controlada minimiza a contaminação por partículas durante os processos de revestimento, o que facilita a formação eficiente de camadas na fabricação de semicondutores e em outras aplicações industriais em que a deposição uniforme de filmes é fundamental.

Características do alvo planar de tântalo, Ta

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Alvo planar de tântalo, alvo Ta Aplicações

1.eletrônicos
- Usado como alvo de pulverização em sistemas de deposição de semicondutores para obter camadas uniformes de filme fino, aproveitando a microestrutura controlada do material. Essa abordagem minimiza os defeitos de superfície e aumenta a consistência do revestimento.

2.revestimentos industriais
- Aplicado como o principal alvo em sistemas de deposição física de vapor para produzir revestimentos decorativos ou funcionais duráveis. Sua alta pureza e seu ponto de fusão estável facilitam a formação consistente do filme, o que é fundamental para o desempenho em ambientes industriais.

Alvo planar de tântalo, embalagem de alvo Ta

Esse alvo planar de tântalo é embalado em contêineres antiestáticos personalizados com amortecimento de espuma para reduzir os choques mecânicos e os riscos de contaminação. Cada alvo é selado em um saco de barreira contra umidade com dessecantes para controlar a umidade. Estão disponíveis opções de embalagem personalizadas, incluindo inserções de espuma compartimentadas e caixas rotuladas. Para uma preservação ideal, armazene os alvos em um ambiente com temperatura controlada e sem poeira.

Informações adicionais

O tântalo é um metal refratário conhecido por sua resistência à corrosão e alto ponto de fusão. Compreender a relação entre o controle da microestrutura e a pureza do material é essencial para obter um crescimento uniforme do filme em aplicações industriais e de semicondutores.

Os avanços nas técnicas de processamento de materiais continuam a melhorar o desempenho dos alvos de pulverização. Pesquisadores e engenheiros se concentram na otimização de parâmetros como tamanho de grão e acabamento de superfície para melhorar a eficiência da deposição e a qualidade do filme. Esses esforços contribuem para o campo mais amplo das aplicações de metais não ferrosos, em que a precisão das características do material é fundamental.