ST11216 Alvo planar de siliceto de tântalo, alvo de TaSi2

Descrição do alvo planar de siliceto de tântalo, alvo de TaSi2

O alvo planar de siliceto de tântalo, TaSi2 é fabricado a partir de um composto de TaSi2 por meio de um processo de planarização controlado. O alvo é projetado para exibir uma microestrutura uniforme com dimensões personalizáveis que suportam a deposição reprodutível de filmes finos. Essa consistência na estrutura e na composição dos grãos desempenha um papel fundamental na obtenção de uma espessura uniforme do filme e na alta reprodutibilidade da deposição no processamento de semicondutores e em outras aplicações avançadas de revestimento.

Características do alvo planar de siliceto de tântalo, TaSi2

As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificaçõesreais podem variar.

Alvo planar de siliceto de tântalo, alvo de TaSi2 Aplicações

1.eletrônicos e semicondutores
- Usado como fonte de sputtering em sistemas de deposição de semicondutores para obter camadas de filme uniformes, aproveitando sua microestrutura controlada. Essa aplicação minimiza a contaminação por partículas e melhora a consistência da camada.

2.processamento industrial
- Aplicado como alvo em sistemas de revestimento para aumentar a durabilidade da superfície em componentes industriais. Sua composição personalizada e a estrutura de grãos planares suportam a transferência eficiente de energia durante a pulverização catódica, reduzindo a variabilidade do processo.

3.pesquisa e desenvolvimento
- Serve como amostra em estudos avançados de película fina para analisar o comportamento da deposição. As dimensões personalizáveis permitem a otimização precisa em configurações experimentais, facilitando avaliações detalhadas do desempenho do material.

Alvo planar de siliceto de tântalo, embalagem do alvo TaSi2

O alvo é embalado em um recipiente protetor antiestático com enchimento de espuma para evitar danos mecânicos durante o transporte. Ele é selado em sacos com barreira contra umidade e fixado em uma caixa externa rígida para minimizar a contaminação. Recomenda-se o armazenamento em um ambiente fresco e seco, e opções de embalagem personalizadas - como contêineres selados a vácuo ou com controle climático - estão disponíveis mediante solicitação.

Informações adicionais

O desenvolvimento de alvos de pulverização catódica como o Alvo Planar de Siliceto de Tântalo, Alvo de TaSi2, envolve uma compreensão abrangente das propriedades do material e das técnicas de processamento. O controle de parâmetros como a estrutura e a composição do grão influencia diretamente o desempenho da deposição e a uniformidade do filme em aplicações industriais e de pesquisa.

Os princípios da ciência dos materiais sustentam a produção e a utilização de alvos de TaSi2. Estudos detalhados sobre as propriedades térmicas e elétricas, bem como sobre a integridade microestrutural, orientam os avanços na deposição de filmes finos. Esse entendimento dá suporte ao aprimoramento contínuo dos processos de fabricação de alvos, garantindo a compatibilidade com aplicações exigentes de semicondutores e revestimentos.