ST11218 Alvo rotativo de vanádio, alvo V

Descrição do alvo rotativo de vanádio, alvo V

O alvo rotativo de vanádio, alvo V, é um alvo de sputtering fabricado com vanádio de alta pureza (peso atômico 50,94 g/mol) que emprega um mecanismo rotativo para obter uma erosão uniforme durante a deposição. O projeto permite o controle preciso da espessura do filme e reduz o desgaste localizado. Suas dimensões personalizáveis garantem a integração com sistemas de sputtering padrão, fornecendo uma solução eficaz para o processamento consistente de filmes finos.

Características do alvo rotativo de vanádio, alvo V

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Aplicações do alvo rotativo de vanádio, alvo V

Aplicações de sputtering industrial
- Usado como alvo de pulverização em sistemas de deposição de filme fino para obter cobertura uniforme do filme, aproveitando seu design rotativo, que distribui uniformemente a erosão e aumenta a estabilidade do processo.
- Aplicado em equipamentos de processamento de semicondutores para minimizar danos localizados por sputter e melhorar a uniformidade geral da deposição.

Pesquisa e desenvolvimento
- Empregado como amostra de teste em experimentos de pulverização catódica para estudar a dinâmica da erosão do material, com suas dimensões personalizáveis que facilitam a experimentação sob medida.
- Usado como material de referência em estudos de otimização de processos devido às suas características previsíveis de erosão e deposição.

Alvo rotativo de vanádio, embalagem do alvo V

O alvo rotativo de vanádio, alvo V, é embalado em um recipiente antiestático selado com amortecimento de espuma incorporado para reduzir o choque mecânico e evitar a contaminação da superfície. A embalagem foi projetada para armazenamento controlado em um ambiente seco e com temperatura regulada para minimizar os riscos de oxidação. Opções de embalagem personalizadas, incluindo preenchimento com gás inerte e rotulagem especial, estão disponíveis para atender a requisitos específicos de manuseio.

Informações adicionais

O vanádio, com seu alto ponto de fusão e propriedades mecânicas distintas, é amplamente utilizado em aplicações que exigem processos de sputtering estáveis. Sua resistência à degradação térmica e compatibilidade com ambientes de alto vácuo fazem dele um material preferido em técnicas avançadas de deposição de filmes finos.

Além dos alvos de sputtering, o vanádio também é incorporado em formulações de ligas e componentes estruturais em que a durabilidade e a microestrutura controlada são essenciais. Pesquisadores e engenheiros continuam a explorar sua utilidade em vários ambientes corrosivos e de alta temperatura.