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ST11219 Alvo planar de zinco, alvo de Zn

Número de catálogo. ST11219
Composição Zn
Pureza ≥99,99%, ou personalizado
Formulário Alvo
Forma Retangular
Dimensões Personalizado

O alvo planar de zinco, alvo de Zn, é fabricado como alvo de pulverização para processos de deposição física de vapor. Ele é produzido pela Stanford Advanced Materials (SAM), que utiliza técnicas sistemáticas de caracterização de materiais, como análise espectroscópica e perfil de superfície, para monitorar a uniformidade da composição. A SAM segue protocolos de qualidade rigorosos em um ambiente controlado para minimizar impurezas e variações dimensionais, garantindo consistência nos processos de deposição e nos resultados de desempenho.

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FAQ

Como a pureza do alvo afeta os resultados da deposição por sputtering?

A alta pureza minimiza a contaminação na superfície de deposição e garante o crescimento estável do filme. A manutenção de níveis de pureza controlados é essencial para alcançar taxas de deposição previsíveis e uniformidade do filme. Isso é fundamental quando é necessária uma estequiometria precisa na fabricação de microeletrônicos.

Que impactos as dimensões personalizadas têm sobre o desempenho da pulverização catódica?

As dimensões personalizadas permitem compatibilidade sob medida com sistemas de pulverização específicos, otimizando o alinhamento do alvo e a uniformidade da deposição. O ajuste do tamanho atenua os efeitos de borda e aprimora o controle do processo, o que é importante para obter uma espessura de camada consistente em todos os substratos.

Quais são as condições ambientais recomendadas durante o processamento do alvo?

É recomendável processar o alvo em um ambiente limpo, com temperatura controlada e baixa umidade. Isso minimiza a oxidação e mantém a integridade da superfície. Para obter mais orientações operacionais, entre em contato conosco.

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