ST11220 Alvo rotativo de zinco, alvo de Zn

Número de catálogo.	ST11220
Composição	Zn
Pureza	≥99,99%, ou personalizado
Formulário	Alvo
Forma	Tubular
Dimensões	Personalizado

O alvo rotativo de zinco é produzido usando um método de processamento rotativo controlado para obter uma erosão uniforme da superfície durante a pulverização catódica. A Stanford Advanced Materials (SAM) aplica a espectroscopia de emissão óptica para verificação da composição em linha e controle de impurezas. Essa abordagem minimiza a variação do material e oferece suporte à consistência dimensional rigorosa, garantindo que o alvo atenda aos requisitos operacionais específicos dos processos de sputtering de alto desempenho.

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FAQ

Como o design rotacional do alvo influencia a uniformidade do filme?

A rotação do alvo promove a erosão uniforme em sua superfície, o que reduz as variações de espessura no filme depositado. Esse efeito é essencial para a obtenção de revestimentos uniformes em substratos grandes. Entre em contato conosco para obter parâmetros operacionais detalhados.

Quais medidas de controle de qualidade confirmam a pureza do zinco durante a produção?

A produção utiliza espectroscopia de emissão óptica e análise de fluorescência de raios X para verificar a composição elementar e os níveis de pureza. Esses métodos garantem que o zinco atenda às rigorosas especificações de materiais adequados para aplicações de pulverização catódica.

As dimensões do alvo podem ser adaptadas para atender a diferentes sistemas de pulverização catódica?

Sim, o projeto permite a personalização das dimensões para se ajustar a várias configurações de equipamentos, facilitando a integração em diversas configurações de pulverização catódica sem comprometer o desempenho do alvo.

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