TM9477 Substrato de titânio Ti Substrato Dia. 1 polegada x 0,5 mm, SSP

Substrato de titânio Ti Substrato Dia. 1 polegada x 0,5 mm, SSP Descrição

O substrato de titânio Ti Substrate Dia. 1 polegada x 0,5 mm, SSP é fabricado com titânio refinado por meio de processamento controlado para atingir um diâmetro de 1 polegada e uma espessura de 0,5 mm. O substrato apresenta uma estrutura de grãos uniforme e baixa rugosidade superficial, propriedades essenciais para aplicações que exigem deposição precisa de filme. Sua inércia química e estabilidade mecânica dão suporte aos processos microeletrônicos e de crescimento de cristais subsequentes.

Substrato de titânio Substrato de Ti Dia. 1 polegada x 0,5 mm, SSP Aplicações

Eletrônicos
- Usado como base para a deposição de filmes semicondutores na fabricação de circuitos integrados para obter a formação de camadas uniformes, aproveitando o acabamento controlado da superfície.
- Aplicado como uma camada de suporte em dispositivos sensores para facilitar contatos elétricos estáveis, explorando a baixa rugosidade da superfície do substrato.

Industrial
- Serve como substrato em conjuntos de células solares de película fina para permitir revestimento uniforme e propagação mínima de defeitos, aproveitando seu controle dimensional preciso.

Substrato de titânio Substrato de Ti Dia. 1 polegada x 0,5 mm, embalagem SSP

O substrato de titânio é embalado em um invólucro de material inerte e antiestático e fixado em contêineres rígidos revestidos de espuma para evitar danos mecânicos e contaminação. Recomenda-se o armazenamento em um ambiente seco e com baixa umidade para evitar a oxidação. Opções de embalagem personalizadas, incluindo bolsas seladas e rotuladas, estão disponíveis para atender a requisitos específicos de manuseio e armazenamento, garantindo a mínima exposição a variações ambientais durante o transporte.

Perguntas frequentes

P1: Como o acabamento da superfície do substrato é controlado durante a produção?
R1: O processo de produção incorpora microscopia eletrônica e profilometria de superfície para monitorar e ajustar as etapas de polimento, garantindo que a rugosidade da superfície permaneça dentro dos limites desejados, o que é vital para a integridade da deposição subsequente do filme.

P2: Que precauções devem ser observadas ao manusear o substrato de titânio em um ambiente de sala limpa?
A2: Use luvas especializadas e transfira o substrato em compartimentos antiestáticos. Protocolos rigorosos de sala limpa ajudam a minimizar o contato com partículas, preservando as propriedades de superfície controlada e a precisão dimensional do substrato.

P3: Como a uniformidade dimensional do substrato afeta seu desempenho em aplicações microeletrônicas?
R3: O diâmetro e a espessura consistentes garantem a compatibilidade com o equipamento de processamento padrão e suportam a deposição confiável do filme, reduzindo a variabilidade do processo e o risco de desalinhamento mecânico durante a montagem do dispositivo.

Informações adicionais

O titânio metálico é valorizado por sua baixa densidade, inércia química e resistência à corrosão, o que o torna adequado para aplicações que exigem propriedades mecânicas estáveis e expansão térmica mínima. Em aplicações de substrato, essas características suportam processos de alta precisão, garantindo a compatibilidade com técnicas avançadas de deposição de película fina.

A integração de substratos de titânio em processos microeletrônicos e de crescimento de cristais se beneficia da microestrutura controlada do material e da baixa rugosidade da superfície. A compreensão desses atributos ajuda a otimizar os parâmetros do processo e a melhorar o desempenho geral do dispositivo em diversos contextos industriais.