TM9479 Substrato de titânio Substrato de Ti 10x10x0,5 mm, SSP

Substrato de titânio Substrato de titânio 10x10x0,5 mm, SSP Descrição

Fabricado com titânio de alta pureza, esse substrato mede 10x10x0,5 mm e é processado pelo método SSP para obter uma densidade de defeitos minimizada e um acabamento de superfície consistente. Sua espessura uniforme e microestrutura controlada permitem a compatibilidade com equipamentos padrão de processamento de semicondutores e cristalografia.

Substrato de titânio Substrato de titânio 10x10x0,5 mm, aplicações SSP

Eletrônicos
- Usado como plataforma de suporte em dispositivos semicondutores para obter deposição uniforme de película fina, aproveitando sua estabilidade dimensional precisa.
- Aplicado como substrato em sensores microeletrônicos para facilitar a modelagem precisa por meio de propriedades de superfície consistentes.

Industrial
- Usado como material de base na fabricação de sensores para obter um posicionamento preciso dos eletrodos, utilizando seu acabamento de superfície controlado.
- Aplicado em sistemas de controle de processos em que a uniformidade dimensional ajuda na deposição reproduzível de materiais.

Cuidados com a saúde
- Serve como um componente em dispositivos de bioengenharia para obter interfaces biocompatíveis, utilizando a característica inerte do titânio.
- Frequentemente usado em equipamentos de diagnóstico para manter propriedades mecânicas estáveis sob ciclos repetidos de esterilização.

Substrato de titânio Substrato de titânio 10x10x0,5 mm, embalagem SSP

Os substratos de titânio são embalados individualmente em bolsas antiestáticas com amortecimento de espuma para minimizar o estresse mecânico durante o transporte. A embalagem incorpora um laminado de barreira contra umidade e compartimentos seguros para evitar contaminação. Recomenda-se armazenar os substratos em um ambiente controlado e com baixa umidade. Opções personalizadas, como bolsas seladas a vácuo e bandejas compartimentadas, estão disponíveis mediante solicitação.

Perguntas frequentes

P1: Quais métodos de teste são usados para verificar a uniformidade do substrato?
R1: A SAM emprega difração de raios X e perfilometria de superfície para avaliar a estrutura cristalina e a consistência da espessura, garantindo que cada substrato atenda aos rigorosos requisitos de uniformidade antes do envio.

P2: Como o processo SSP afeta o substrato de titânio?
A2: O processo SSP otimiza a microestrutura do substrato e minimiza os defeitos de superfície, resultando em um controle dimensional consistente e um acabamento de superfície uniforme para maior compatibilidade com as etapas de processamento subsequentes.

P3: Quais são as condições de armazenamento recomendadas para esses substratos?
R3: Os substratos devem ser armazenados em um ambiente com temperatura controlada e baixa umidade e mantidos em suas embalagens protetoras antiestáticas para evitar oxidação e contaminação antes do uso.

Informações adicionais

Os substratos de titânio são amplamente utilizados em campos que exigem propriedades precisas e uniformes do material. A inércia química inerente do titânio e sua capacidade de suportar altas temperaturas o tornam adequado para aplicações na fabricação de semicondutores e na pesquisa de materiais avançados. A caracterização detalhada das condições de sua superfície é fundamental para garantir o comportamento adequado da interface durante a integração do dispositivo.

A engenharia de substratos de titânio se concentra em obter características de material reproduzíveis. Técnicas analíticas avançadas, como difração de raios X e perfilometria, contribuem para uma compreensão mais profunda das propriedades microestruturais do substrato. Essa abordagem dá suporte às etapas de processamento subsequentes e promove um desempenho consistente do material em várias aplicações industriais e de pesquisa.