CY8505 Substrato de cristal de aluminato de lantânio LAO (LaAlO3) (100) 10x10x0,5 mm

Substrato de cristal de aluminato de lantânio LAO (LaAlO3) (100) 10x10x0,5 mm Descrição

Os substratos de aluminato de lantânio (LaAlO₃) são amplamente reconhecidos por sua excelente estabilidade térmica, baixa perda dielétrica e constantes de rede muito próximas, o que os torna ideais para o crescimento de filmes finos epitaxiais de alta qualidade. Esse substrato de cristal orientado de 10 × 10 × 0,5 mm (100) oferece perfeição cristalina superior e superfícies polidas, garantindo densidade mínima de defeitos e uniformidade ideal. A robusta estabilidade química do LaAlO₃ também suporta uma ampla gama de pesquisas avançadas e aplicações industriais, incluindo dispositivos supercondutores, materiais ferroelétricos e desenvolvimento de eletrônicos de óxido.

Fabricado sob rigorosos padrões de qualidade, cada substrato passa por uma inspeção rigorosa quanto à precisão dimensional, à rugosidade da superfície e à precisão da orientação. Com qualidade de superfície consistente e alta homogeneidade cristalina, esse substrato de LaAlO₃ permite que pesquisadores e engenheiros obtenham resultados confiáveis e repetíveis em ambientes exigentes.

Substrato de cristal de aluminato de lantânio LAO (LaAlO3) (100) 10x10x0,5 mm Aplicações

Os substratos de cristal de aluminato de lantânio (LaAlO3), com dimensões de 10×10×0,5 mm e orientados ao longo do eixo (100), apresentam propriedades dielétricas superiores, alta estabilidade estrutural e incompatibilidade mínima de rede para vários filmes finos. Essas características fazem deles a escolha ideal para diversas aplicações, incluindo eletrônica avançada e pesquisa de ponta. Veja a seguir algumas das principais formas de utilização desses substratos.

1. aplicações industriais

-Aplicação 1: Usado na produção de capacitores de alta frequência devido à sua excelente constante dielétrica e estabilidade, permitindo um desempenho preciso em circuitos industriais exigentes.

-Aplicação 2: Empregado para deposição de película fina em componentes de telecomunicações, aproveitando sua estrutura de rede estável para a fabricação confiável de dispositivos.

2. aplicações de pesquisa

-Aplicação 1: Ideal para experimentos de crescimento de filmes epitaxiais, graças às suas propriedades mínimas de incompatibilidade de rede e expansão térmica.

-Aplicação 2: Utilizado em pesquisas de computação quântica, fornecendo uma superfície robusta que suporta filmes finos supercondutores com o mínimo de defeitos.

3. aplicações comerciais

-Aplicação 1: Incorporado a sensores comerciais para aumentar a sensibilidade e a durabilidade, beneficiando-se de suas características estruturais superiores.

-Aplicação 2: Integrado a tecnologias de exibição avançadas, auxiliando no desenvolvimento de telas de última geração que exigem materiais de substrato estáveis.

Substrato de cristal de aluminato de lantânio LAO (LaAlO3) (100) Embalagem de 10x10x0,5 mm

Cada substrato de cristal de aluminato de lantânio LAO (LaAlO3) (100) 10x10x0,5 mm é embalado com segurança em uma caixa plástica segura para ESD com amortecimento de espuma para proteção contra impactos. Em seguida, são selados em bolsas resistentes à umidade e etiquetados para rastreamento. Para evitar contaminação, cada substrato é envolto em um filme de grau de sala limpa. Para armazenamento prolongado, armazene em um ambiente com temperatura controlada. Opções personalizadas de embalagem e espessura estão disponíveis mediante solicitação.

Embalagem: Selada a vácuo, caixa de madeira ou personalizada.

Substrato de cristal de aluminato de lantânio LAO (LaAlO3) (100) 10x10x0,5 mm Perguntas frequentes

P1: Quais são as principais propriedades do material do substrato de cristal de aluminato de lantânio LAO (LaAlO3) (100) 10x10x0,5 mm?

A1: O LaAlO3 é um cristal pseudocúbico com alta constante dielétrica, boa estabilidade térmica e baixas correntes de fuga, o que o torna adequado para aplicações de filmes microeletrônicos e supercondutores. Ele tem uma constante de rede próxima a muitas epilayers à base de óxido, facilitando o crescimento epitaxial. Com uma classificação de dureza de cerca de 6,5 na escala de Mohs, apresenta resistência moderada a arranhões. Sua orientação (100) garante a deposição uniforme do filme.

P2: Como esse produto deve ser manuseado e armazenado?

A2: Os operadores devem manusear os substratos de LAO com luvas limpas e sem pó para evitar contaminação da superfície ou microarranhões. Evite o contato direto com as mãos desprotegidas e sempre use pinças limpas ou suportes de substrato especializados. Armazene os substratos em um ambiente de baixa umidade e sem poeira, de preferência em caixas antiestáticas para reduzir o acúmulo de eletrostática. Evite produtos químicos agressivos e exposição prolongada à umidade. Uma limpeza suave com álcool isopropílico pode ajudar a remover contaminantes leves sem danificar a superfície.

P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao substrato de cristal de aluminato de lantânio LAO (LaAlO3) (100) 10x10x0,5 mm?

R3: Os substratos de LAO de alta qualidade normalmente atendem às rigorosas tolerâncias dimensionais, planicidade e especificações de rugosidade da superfície exigidas pelos setores de semicondutores e óptico. Muitos fornecedores aderem aos sistemas de gerenciamento de qualidade ISO 9001, garantindo a rastreabilidade e o desempenho consistente do produto. Os substratos podem passar por uma inspeção rigorosa para detectar defeitos como lascas, bolhas ou inclusões. Além disso, alguns fabricantes fornecem certificados de conformidade e orientações cristalográficas medidas com precisão, confirmando que os substratos atendem aos padrões exigidos pelo setor e pelas aplicações.

Informações relacionadas

1. Propriedades e vantagens do material

Esse substrato de cristal de aluminato de lantânio LAO (LaAlO₃), orientado em (100) e produzido em um formato de 10x10x0,5 mm, é conhecido por sua excelente combinação cristalográfica com uma variedade de materiais de película fina. Sua estrutura estável do tipo cúbico à temperatura ambiente proporciona uma incompatibilidade de rede consistentemente baixa, o que o torna ideal para o crescimento heteroepitaxial de alta qualidade e desempenho de primeira linha na fabricação de dispositivos.

Propriedades químicas estáveis e uma constante dielétrica relativamente alta diferenciam esse substrato de LAO de outros materiais de óxido. Sua robustez permite que ele tolere condições de processamento exigentes, como etapas de deposição em alta temperatura, ao mesmo tempo em que mantém um acabamento de superfície superior que suporta a uniformidade precisa do filme. Esse nível de confiabilidade garante resultados consistentes na integração de camadas complexas de semicondutores, supercondutores ou ferroelétricos.

2. Aplicações em setores avançados

As principais instalações de pesquisa e linhas de produção em vários campos, incluindo microeletrônica e optoeletrônica, contam com substratos de LAO (LaAlO₃) (100) para desenvolvimento de protótipos e fabricação de alto volume. Seu tamanho de 10x10x0,5 mm simplifica o manuseio, e a orientação cristalográfica ajuda a obter o alinhamento epitaxial exato, o que é fundamental para a criação de dispositivos sensíveis à qualidade da estrutura e da interface.

A utilização desse substrato de cristal ampliou as oportunidades nos setores que buscam aproveitar materiais avançados para filtros ópticos, ressonadores e componentes microeletrônicos de alta frequência de última geração. Sua densidade reduzida de defeitos e superfície uniforme permitem a criação de dispositivos com propriedades eletromagnéticas superiores, aumentando o desempenho geral em aplicações de ponta.