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ST11199 Alvo planar de pentóxido de nióbio, alvo de Nb2O5

Número de catálogo. ST11199
Composição Nb2O5
Pureza ≥99,95%, ou personalizado
Formulário Alvo
Forma Retangular
Dimensões Personalizado

O alvo planar de pentóxido de nióbio, Nb2O5, é produzido usando métodos de síntese controlada para obter uma superfície plana uniforme para aplicações de pulverização catódica. A Stanford Advanced Materials (SAM) utiliza técnicas avançadas de inspeção, incluindo análise SEM, durante o processo de fabricação para verificar a homogeneidade e a composição da superfície. O alvo é fabricado sob rigoroso controle de processo, garantindo consistência na distribuição de material e integridade estrutural para processos exigentes de deposição de filmes finos.

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FAQ

Que considerações sobre o processo de pulverização catódica são importantes ao usar alvos de pentóxido de nióbio?

Ao usar alvos de Nb2O5, é essencial manter um plasma de Ar estável e monitorar as taxas de deposição. Podem ser necessários ajustes nas configurações de potência para acomodar a configuração planar do alvo, garantindo a deposição uniforme do filme fino sem induzir microfissuras.

Como a pureza do material afeta o desempenho dos alvos de sputtering de pentóxido de nióbio?

A alta pureza do material minimiza a contaminação por partículas e garante propriedades consistentes do filme durante a deposição. O controle preciso da composição química leva a uma melhor uniformidade do filme e a uma melhor aderência, o que é fundamental para aplicações que exigem especificações de processo rigorosas.

Há etapas específicas de pré-tratamento recomendadas para alvos de pentóxido de nióbio antes do sputtering?

O pré-tratamento pode incluir limpeza e secagem suaves para remover os contaminantes da superfície. Esses procedimentos ajudam a obter a adesão ideal e evitam a formação de arco durante a pulverização catódica. Para obter diretrizes detalhadas, consulte a documentação técnica fornecida com o alvo.

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