ST7951 Alvo de pulverização de molibdênio 99,95%, Dia. 2 polegadas

Alvo de pulverização de molibdênio 99,95%, Dia. 2 polegadas Descrição

Nosso alvo de pulverização de molibdênio apresenta alta pureza de 99,95% (Mo) e um diâmetro preciso de 2 polegadas, o que o torna extremamente adequado para a deposição de filmes finos e outras aplicações avançadas de revestimento. Graças ao alto ponto de fusão do molibdênio e à excepcional condutividade térmica, esse alvo suporta temperaturas extremas e mantém um desempenho confiável. Além disso, sua resistência inerente à corrosão garante a estabilidade em ambientes exigentes, contribuindo para uma vida operacional prolongada e uma qualidade de filme consistente.

Padrões de qualidade rigorosos regem cada estágio do processo de fabricação, desde o fornecimento da matéria-prima até a inspeção final. Cada alvo é submetido a testes rigorosos para garantir uma microestrutura uniforme, densidade ideal e o mínimo de impurezas. Como resultado, pesquisadores e operadores industriais podem confiar em nosso alvo de pulverização de molibdênio para obter resultados reproduzíveis e maior eficiência de deposição em processos de PVD de última geração.

Alvo de pulverização de molibdênio 99,95%, Dia. 2 polegadas Aplicações

O alvo de pulverização de molibdênio 99,95%, Dia. 2 polegadas é amplamente reconhecido por sua excelente condutividade térmica, resistência mecânica superior e alto ponto de fusão. Esses atributos permitem um desempenho confiável em ambientes adversos, tornando-o ideal para várias aplicações avançadas. De revestimentos de filmes finos a componentes semicondutores e camadas ópticas, as propriedades exclusivas do molibdênio proporcionam qualidade consistente e funcionalidade aprimorada do dispositivo.

1. Aplicações de deposição de filmes finos

- Revestimento PVD: O alto ponto de fusão do molibdênio garante uma deposição estável e excelente adesão para camadas protetoras e acabamentos decorativos.

- Magnetron Sputtering: Sua robusta estabilidade mecânica proporciona filmes precisos e uniformes em ambientes a vácuo com contaminação reduzida.

2. Aplicações de semicondutores

- Circuitos integrados: A condutividade e a resistência à temperatura do molibdênio permitem interconexões confiáveis e maior longevidade do dispositivo.

- Componentes eletrônicos: Sua resistência à corrosão e o teor mínimo de impurezas garantem peças eletrônicas estáveis e de alto desempenho.

3. Aplicações de revestimento óptico

- Revestimentos antirreflexo: As fortes características de ligação do molibdênio e a baixa perda por dispersão aumentam a clareza e a durabilidade ópticas.

- Revestimentos espelhados: Suas camadas uniformes e reflexivas melhoram a eficiência energética e o desempenho em sistemas ópticos de alta temperatura.

Alvo de pulverização de molibdênio 99,95%, Dia. 2 polegadas Embalagem

Cada alvo de pulverização de molibdênio é cuidadosamente selado em um invólucro embalado a vácuo para proteger contra umidade e oxidação. Uma camada de espuma de absorção de choque ou plástico bolha oferece proteção extra durante o transporte. Medidas anti-oxidação, como a lavagem com gás inerte, ajudam a preservar a pureza da superfície. Para pedidos maiores ou requisitos exclusivos, a embalagem pode ser personalizada com amortecimento extra ou bolsas com vedação dupla, garantindo que seu alvo chegue sem danos e pronto para aplicações de alto desempenho.

Embalagens: Selada a vácuo, caixa de madeira ou personalizada.

Alvo de pulverização catódica de molibdênio 99,95%, Dia. 2 polegadas Perguntas frequentes

P1: Quais são as principais propriedades do material do alvo de pulverização catódica de molibdênio 99,95%, Dia. 2 polegadas?

A1: Esse alvo de molibdênio de alta pureza apresenta excelente condutividade térmica, baixa expansão térmica e alto ponto de fusão (cerca de 2.623°C). Sua densidade de aproximadamente 10,2 g/cm³ e dureza garantem excepcional resistência ao desgaste, enquanto a pureza de 99,95% minimiza a contaminação durante a pulverização catódica. Além disso, a microestrutura de granulação fina oferece estabilidade mecânica superior. Essas propriedades o tornam particularmente adequado para aplicações exigentes de película fina que requerem revestimentos de Mo precisos e confiáveis.

P2: Como esse alvo de sputtering de Mo pode ser processado ou fabricado?

A2: A fabricação começa com a fusão a vácuo ou metalurgia do pó para refinar o material a 99,95% de pureza. O molibdênio fundido ou compactado é submetido a laminação a quente, forjamento ou sinterização para obter a forma desejada. Tratamentos térmicos adicionais, como alívio de tensão em temperaturas elevadas, ajudam a refinar a estrutura do grão. Em seguida, é realizada uma usinagem precisa (retificação ou polimento) para garantir a precisão dimensional e uma qualidade de superfície uniforme.

P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao Molybdenum Sputtering Target 99.95%, Dia. 2 polegadas?

R3: Esses alvos normalmente estão em conformidade com as normas ASTM B386 e ASTM B387 para especificações de material de molibdênio. A pureza é verificada por meio de ICP-MS (Espectrometria de massa com plasma indutivamente acoplado) ou GD-MS (Espectrometria de massa com descarga luminescente), garantindo níveis de pureza de 99,95%. As tolerâncias dimensionais são verificadas por meio de ferramentas de metrologia precisas, e os fornecedores geralmente mantêm a certificação ISO 9001 para garantir processos de fabricação consistentes, documentação rigorosa e rastreabilidade. Isso garante um desempenho confiável e um conteúdo mínimo de impurezas.

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1. Matérias-primas - Materiais de Mo

O Mo é um material valioso usado em várias aplicações de sputtering. Ele é extraído e purificado por meio de operações de processamento avançadas. A Stanford Advanced Materials obtém materiais de alta qualidade de fornecedores confiáveis, garantindo a qualidade e a consistência de nossos produtos de alvo de pulverização.

2. Fabricação de alvos de pulverização

Vários métodos são usados para produzir alvos de pulverização de Mo, incluindo a metalurgia do pó. Cada método resulta em diferentes características de alvo, como densidade, estrutura de grãos e propriedades de superfície. O método de fabricação é selecionado com base nos requisitos da aplicação pretendida e nas especificações de desempenho.