ST7961 Alvo rotativo de molibdênio 99,9%, Dia. 4 polegadas

Alvo rotativo de molibdênio 99,9%, Dia. 4 polegadas Descrição

Nosso Alvo Rotativo de Molibdênio oferece desempenho excepcional derivado de sua pureza de 99,9% e da composição robusta do material. Medindo 4 polegadas de diâmetro, ele apresenta excelente resistência à corrosão, estabilidade térmica e alto ponto de fusão - benefícios fundamentais que o tornam ideal para aplicações industriais exigentes. Esse molibdênio premium apresenta resistência notável em temperaturas elevadas, garantindo uma operação confiável nos ambientes mais rigorosos. Os clientes podem contar com o mínimo de impurezas e estrutura homogênea do material, proporcionando resultados consistentes e maior longevidade do alvo.

Projetado para atender a rigorosos padrões de qualidade, cada alvo rotativo é submetido a testes rigorosos para confirmar a composição e o tamanho uniforme dos grãos. Ao priorizar a pureza e a precisão, garantimos excelentes rendimentos de sputtering, integridade superior do filme e contaminação mínima. Confie em nosso Molybdenum Rotary Target para elevar seus processos nos setores de semicondutores, aeroespacial e de revestimento.

Alvo rotativo de molibdênio 99,9%, Dia. 4 polegadas Aplicações

Os alvos rotativos de molibdênio com 99,9% de pureza são amplamente procurados por sua excepcional resistência mecânica, alto ponto de fusão e excelente eficiência de pulverização. Como essas propriedades garantem a estabilidade e a espessura uniforme do filme durante operações em alta temperatura, esses alvos são excelentes em processos críticos de deposição de filmes finos. Além disso, sua inércia química os torna adequados para a fabricação de dispositivos semicondutores e aplicações ópticas que exigem pureza superior.

1. Aplicações de deposição de filmes finos

- Revestimento PVD: A alta pureza do molibdênio ajuda a obter espessura consistente de película fina, excelente adesão e contaminação minimizada para revestimentos funcionais avançados.

- Magnetron Sputtering: A estrutura robusta e a alta condutividade térmica permitem taxas de pulverização estáveis e melhor uniformidade de revestimento para camadas protetoras.

2. Aplicações de semicondutores

- Circuitos integrados: A baixa resistividade do molibdênio e as propriedades estáveis da interface proporcionam conectividade confiável em projetos de alta densidade.

- Componentes eletrônicos: Sua excelente estabilidade térmica e química aumenta a longevidade e o desempenho dos componentes em condições de processamento intenso.

3. Aplicações de revestimento óptico

- Revestimentos antirreflexo: A taxa de pulverização controlada e a pureza do molibdênio garantem a espessura precisa da camada e a mínima interferência óptica.

- Revestimentos espelhados: Sua forte adesão e alta refletividade contribuem para espelhos duráveis com gerenciamento superior da luz.

Alvo rotativo de molibdênio 99,9%, Dia. Embalagem de 4 polegadas

Os alvos rotativos de molibdênio são meticulosamente embalados em materiais selados e resistentes à corrosão e amortecidos para evitar danos por impacto. Cada alvo é embalado a vácuo para protegê-lo ainda mais da umidade e da oxidação. Um dessecante é incluído para absorver a umidade residual, enquanto uma caixa externa segura reduz o risco de contaminação. Tamanhos de embalagens, etiquetas e medidas de proteção personalizados podem ser organizados para atender a requisitos específicos de remessa e manuseio, garantindo a integridade ideal do produto na entrega.

Embalagem: Selada a vácuo, caixa de madeira ou personalizada.

Alvo rotativo de molibdênio 99,9%, Diâm. 4 polegadas Perguntas frequentes

P1: Quais são as principais propriedades do material do Molybdenum Rotary Target 99.9%, Dia. 4 polegadas?

R1: O molibdênio oferece excelente condutividade térmica e elétrica, alto ponto de fusão e excelente resistência a temperaturas elevadas. O grau de pureza de 99,9% garante o mínimo de impurezas, reduzindo os riscos de contaminação em aplicações de precisão, como produção de semicondutores e filmes finos. Com um diâmetro de 4 polegadas projetado para processos de revestimento em larga escala, esse alvo de alta densidade apresenta estrutura de grãos uniforme, boa ductilidade e resistência confiável à corrosão, o que o torna altamente adequado para operações de sputtering exigentes.

P2: Como esse alvo de sputtering de Mo pode ser processado ou fabricado?

A2: O alvo rotativo de molibdênio é normalmente produzido por meio de metalurgia do pó, em que o pó de molibdênio é prensado, sinterizado e, em seguida, refinado por meio de prensagem isostática a quente (HIP) ou forjamento. A geometria rotativa é obtida por meio da usinagem do blank sinterizado com tolerâncias exatas. Processos adicionais, como retificação de superfície, polimento e limpeza ultrassônica, aumentam a uniformidade e reduzem as imperfeições da superfície. Essas etapas ajudam a proporcionar uma superfície ideal e lisa para um desempenho consistente de pulverização catódica.

P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao Molybdenum Rotary Target 99.9%, Dia. 4 polegadas?

R3: Esses alvos geralmente estão em conformidade com a ISO 9001 para gerenciamento de qualidade, garantindo produção e rastreabilidade consistentes. A composição do material também pode estar alinhada com a ASTM B386 ou especificações relacionadas para produtos de molibdênio. A pureza é verificada por meio de espectrometria de emissão óptica (OES) e técnicas de fusão de gás inerte. Tolerâncias dimensionais e de densidade rigorosas são referenciadas na documentação de qualidade específica do fornecedor, garantindo espessura uniforme, defeitos mínimos e desempenho confiável em sistemas de sputtering a vácuo.

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O Mo é um material valioso usado em várias aplicações de sputtering. Ele é extraído e purificado por meio de operações de processamento avançadas. A Stanford Advanced Materials obtém materiais de alta qualidade de fornecedores confiáveis, garantindo a qualidade e a consistência de nossos produtos de alvo de pulverização.

2. Fabricação de alvos de pulverização

Vários métodos são usados para produzir alvos de pulverização de Mo, incluindo a metalurgia do pó. Cada método resulta em diferentes características de alvo, como densidade, estrutura de grãos e propriedades de superfície. O método de fabricação é selecionado com base nos requisitos da aplicação pretendida e nas especificações de desempenho.