Descrição dos alvos de nióbio (alvos de Nb)
Os alvos de nióbio (alvos de Nb) estão disponíveis em várias formas, purezas, tamanhos e preços. Eles são usados para deposição de filmes finos, normalmente para células de combustível, decoração, semicondutores, telas, LEDs e dispositivos fotovoltaicos, revestimento de vidro etc.
Especificação dos alvos de nióbio (alvos de Nb)
Tamanhos dos alvos de nióbio (alvos de Nb):
Material: RO4200, RO4210
Tamanho:
Disco circular/alvos
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Diâmetro: 10-400 mm
Espessura: 2-28 mm
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Disco/alvos retangulares
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Espessura: 1 mm a 20,32 mm
Largura: até 800 mm
Comprimento: até 3000 mm
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Pureza: 99,9%
Alvos de nióbio (alvos de Nb) Parâmetro de tecnologia:
Recristalização
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95%min
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Tamanho do grão
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ASTM 4 ou mais fino
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Acabamento da superfície
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16Rms máx. ou Ra 0,4 (RMS64 ou melhor)
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Planicidade
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0,1 mm ou 0,15% no máximo
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Tolerância
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+/-0,010" em todas as dimensões
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Alvos de nióbio (alvos de Nb) Aplicação
Os alvos de nióbio são essenciais na produção de filmes finos para eletrônicos, revestimentos ópticos e materiais supercondutores. Eles são usados em processos de sputtering e evaporação para criar camadas de alto desempenho em semicondutores, células solares e lentes ópticas. Suas propriedades superiores garantem durabilidade e eficiência em aplicações tecnológicas avançadas.
Especificação
Tamanhos dos alvos de nióbio (alvos de Nb):
Material: RO4200, RO4210
Tamanho:
Disco circular/alvos
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Diâmetro: 10-400 mm
Espessura: 2-28 mm
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Disco/alvos retangulares
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Espessura: 1 mm a 20,32 mm
Largura: até 800 mm
Comprimento: até 3000 mm
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Pureza: 99,9%
Alvos de nióbio (alvos de Nb) Parâmetro tecnológico:
Recristalização
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95%min
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Tamanho do grão
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ASTM 4 ou mais fino
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Acabamento da superfície
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16Rms máx. ou Ra 0,4 (RMS64 ou melhor)
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Planicidade
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0,1 mm ou 0,15% no máximo
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Tolerância
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+/-0,010" em todas as dimensões
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