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INDÚSTRIAS
Química e Farmácia Indústria farmacêutica Aeroespacial Agricultura Automotivo Fabricação de produtos químicos Odontologia Eletrônicos Armazenamento de energia e baterias Células a combustível Metais com grau de investimento Joias e moda Iluminação Médico Petróleo e gás Ótica Papel e celulose Produtos farmacêuticos e cosméticos Revestimento Pesquisa e laboratório Energia solar Espaço Produtores de aço e ligas Equipamentos esportivos Têxteis e tecidos
APLICAÇÕES
Aplicações de tungstênio Metalurgia Semicondutores Ímãs de terras raras Catalisador Pó para impressão 3D Pó de liga de alta entropia Moldagem por injeção de metal Manufatura aditiva Revestimentos por pulverização térmica Prensagem isostática a quente Aplicação de elementos de terras raras Catalisadores ambientais Faixa de marcação Materiais OLED Fio de termopar Embalagens e componentes internos Bateria de íon-lítio e produtos químicos eletrônicos Pós metálicos para ferramentas de diamante Pó magnético macio
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  • (Descontinuado) ST0515 Alvo de Sputtering de Óxido de Hafnio com Óxido de Yttrio, HfO2/Y2O3

    • Descontinuado (Descontinuado) ST0515 Alvo de Sputtering de Óxido de Hafnio com Óxido de Yttrio, HfO2/Y2O3

    Número de catálogo. ST0515
    Fórmula química HfO2/Y2O3
    Pureza 99.9%, 99.99%, 99.999%
    Forma Discos, placas, alvos de coluna, alvos de degrau, personalizados

    Os Alvos de Sputtering de Óxido de Hafnio com Óxido de Ítrio da SAM estão disponíveis em várias formas, puridades, tamanhos e preços. Nós nos especializamos na produção de materiais de deposição física a vapor (PVD) de alta pureza com a maior densidade possível e os menores tamanhos de grão médios para uso em aplicações semicondutoras, deposição química a vapor (CVD) e deposição física a vapor (PVD) em displays e óptica.

     

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