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Stanford Advanced Materials
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  • Alvos de pulverização catódica
  • (Descontinuado) ST0515 Alvo de Sputtering de Óxido de Hafnio com Óxido de Yttrio, HfO2/Y2O3

    • Descontinuado (Descontinuado) ST0515 Alvo de Sputtering de Óxido de Hafnio com Óxido de Yttrio, HfO2/Y2O3

    Número de catálogo. ST0515
    Fórmula química HfO2/Y2O3
    Pureza 99.9%, 99.99%, 99.999%
    Forma Discos, placas, alvos de coluna, alvos de degrau, personalizados

    Os Alvos de Sputtering de Óxido de Hafnio com Óxido de Ítrio da SAM estão disponíveis em várias formas, puridades, tamanhos e preços. Nós nos especializamos na produção de materiais de deposição física a vapor (PVD) de alta pureza com a maior densidade possível e os menores tamanhos de grão médios para uso em aplicações semicondutoras, deposição química a vapor (CVD) e deposição física a vapor (PVD) em displays e óptica.

     

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