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  • ST0334 Alvos de pulverização de óxido de índio e estanho (ITO)

    • ST0334 Alvos de pulverização de óxido de índio e estanho (ITO)

    Número de catálogo. ST0334
    Material 90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2
    Pureza >=99.99%
    Densidade 7,1g/cm3

    Depositado por magnetron ou outras técnicas de sputtering, o alvo de óxido de índio e estanho (ITO) é usado para substratos revestidos com ITO, incluindo eletrodos para telas planas, contatos de painéis sensíveis ao toque, vidros de janelas de automóveis e edifícios que economizam energia, dispositivos optoeletrônicos, painéis solares etc. A Stanford Advanced Materials fornece alvos de ITO de alta qualidade com diferentes dimensões para nossos clientes.

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    Indium Tin Oxide (In2O3/SnO2) Sputtering Target
    Indium Tin Oxide (In2O3/SnO2) Sputtering Target
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    ST0334 Alvos de pulverização de óxido de índio e estanho (ITO)
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    Material
    90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2
    Pureza
    >=99.99%
    Densidade
    7,1g/cm3
     
    VD0691 Pelotas de óxido de índio e ferro (InFe₂O₄) — Materiais para evaporação
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    Material
    Óxido de ferro e índio (InFe2O4)
    Pureza
    99.9%%
    Forma
    Pó/grânulo/ personalizado
     
    VD0692 Pelotas de óxido de índio (In₂O₃) – Materiais para evaporação
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    Material
    Óxido de índio (In2O3)
    Pureza
    99.9% ~ 99.99%
    Forma
    Pó/grânulo/ personalizado
     
    VD0693 Pelotas de óxido de índio-estanho (ITO) – Materiais para evaporação
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    Material
    Óxido de índio e estanho (ITO)
    Pureza
    99.9% ~ 99.99%
    Forma
    Pó/grânulo/ personalizado

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      2''

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      • Outros
      • Other
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      0,25''

      • 0,25''
      • 0,125''
      • Todos
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      • Sim
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