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Stanford Advanced Materials
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  • ST0334 Alvos de pulverização de óxido de índio e estanho (ITO)

    • ST0334 Alvos de pulverização de óxido de índio e estanho (ITO)

    Número de catálogo. ST0334
    Material 90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2
    Pureza >=99.99%
    Número CAS 50926-11-9
    Densidade 7,1g/cm3
    Ponto de fusão 1565℃

    Depositado por magnetron ou outras técnicas de sputtering, o alvo de óxido de índio e estanho (ITO) é usado para substratos revestidos com ITO, incluindo eletrodos para telas planas, contatos de painéis sensíveis ao toque, vidros de janelas de automóveis e edifícios que economizam energia, dispositivos optoeletrônicos, painéis solares etc. A Stanford Advanced Materials fornece alvos de ITO de alta qualidade com diferentes dimensões para nossos clientes.

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