Descrição dos alvos e discos de pulverização da liga de nióbio e zircônio
Os alvos e discos de pulverização catódica deliga de nióbio e zircônio, que combinam nióbio e zircônio, incorporam características superiores cruciais para a deposição de filmes finos. Esses alvos e discos garantem a aplicação precisa e uniforme de filmes em esforços de revestimento de semicondutores e filmes finos. Com pureza e resiliência incomparáveis, eles oferecem vida operacional prolongada e desempenho inabalável em ambientes a vácuo. A Stanford Advanced Materials se destaca na engenharia e na fabricação de alvos e discos de pulverização de liga de nióbio e zircônio de alta qualidade, meticulosamente adaptados para atender aos padrões exigentes de fabricação e pesquisa de semicondutores. Essa dedicação garante a deposição confiável e eficiente de filmes finos, contribuindo para o avanço das inovações tecnológicas de ponta.
Especificação dos discos e alvos de pulverização da liga de nióbio e zircônio
Material
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R4251 (Nb-1Zr) R4261 (Nb-1Zr)
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Superfície
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Polida
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Tamanho
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Alvos circulares Diâmetro 10-400 mm Espessura 2-28 mm
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Pureza
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99.9% 99.95% 99.99%
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Alvos e discos de pulverização catódica de liga de nióbio e zircônio Aplicações
1. Fabricação de semicondutores: Usado na produção de circuitos integrados (ICs), telas planas e células fotovoltaicas por suas propriedades precisas e uniformes de deposição de filmes finos.
2. Armazenamento de dados: Empregado na fabricação de mídia de gravação magnética, como unidades de disco rígido (HDDs) e fita magnética, para obter armazenamento de dados de alta densidade.
3. Revestimentos ópticos: Aplicados em componentes ópticos e lentes para revestimentos antirreflexo, camadas protetoras e revestimentos de espelho em lasers e instrumentos ópticos.
4. Revestimentos decorativos: Utilizados para fins decorativos em joias, acabamentos automotivos e aplicações arquitetônicas devido à sua durabilidade e apelo estético.
5. Engenharia de superfície: Usado para revestimentos resistentes ao desgaste e à corrosão em ferramentas, equipamentos de corte e dispositivos médicos para melhorar seu desempenho e longevidade.
Alvos e discos de pulverização catódica de liga de nióbio e zircônio Embalagem
Nossos discos e alvos de pulverização catódica de liga de nióbio e zircônio são etiquetados e rotulados externamente para garantir a identificação eficiente e o controle de qualidade. Tomamos muito cuidado para evitar qualquer dano que possa ser causado durante o armazenamento ou o transporte.
Perguntas frequentes
P1: Esses alvos e discos são adequados para processos de sputtering em alta temperatura?
R1: Sim, os alvos e discos de liga de nióbio e zircônio são altamente resistentes à degradação térmica, o que os torna adequados para processos de pulverização catódica em alta temperatura, inclusive aqueles usados nos setores aeroespacial e de semicondutores.
P2: A composição dos alvos de sputtering pode ser personalizada?
A2: Sim, fornecemos composições de liga personalizáveis para alvos de pulverização para atender às propriedades específicas do filme, ao desempenho e às necessidades da aplicação. Entre em contato com nossa equipe de vendas para discutir suas necessidades.
P3: Como os alvos e discos de sputtering são embalados para envio?
R3: Cada alvo e disco é cuidadosamente embalado com um invólucro protetor para evitar danos durante o transporte. A embalagem à prova de umidade e resistente a choques garante a integridade do produto até que ele chegue até você.
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Os alvos e discos de pulverização catódica de liga de nióbio e zircônio de alta qualidade estão disponíveis em várias formas, purezas, tamanhos e preços. Somos especializados na produção de materiais de revestimento de película fina de alta pureza com a maior densidade possível e os menores tamanhos médios de grão possíveis. Envie-nos uma consulta para obter os preços atuais dos alvos de pulverização catódica e de outros materiais de deposição que não estão listados.