ST11209 Alvo de pulverização de silício, alvo de Si

Name: ST11209 Silicon Sputtering Target, Si Target
SKU: ST11209
Availability: InStock
Rating: 4.9 (166 reviews)

Número de catálogo.	ST11209
Composição	Sim
Pureza	≥99,99% ou sob medida
Formulário	Meta
Forma	Redondo, retangular
Dimensões	Personalizado

O alvo de pulverização de silício (alvo de Si) é um alvo de silício metálico produzido para deposição física de vapor. Stanford Advanced Materials (SAM) aplica práticas consagradas de deposição química de vapor e utiliza microscopia eletrônica interna para monitorar a uniformidade da superfície durante a produção. O processo da SAM inclui inspeção quantitativa de defeitos e medições calibradas de densidade para manter as especificações do material essenciais para a deposição de filmes finos. Este alvo é produzido com atenção à composição medida e à precisão dimensional.

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Sim

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≥99,99% ou sob medida

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FAQ

Como o recurso de dimensão personalizada afeta a uniformidade da deposição da camada em aplicações de pulverização catódica?

As dimensões personalizadas permitem a integração em configurações de equipamentos que exigem tamanhos específicos de alvo, o que pode melhorar a uniformidade da deposição de filmes finos. A adaptação aos requisitos do processo minimiza os efeitos de borda e contribui para um crescimento consistente do filme. Entre em contato conosco para obter orientações detalhadas sobre integração.

Quais são as especificações de pureza do material normalmente observadas em alvos de pulverização de silício?

O silício de alta pureza é utilizado para reduzir as variações nas camadas depositadas causadas por contaminantes. O processo de produção envolve testes quantitativos e inspeções de superfície para verificar se o silício atende aos níveis de pureza controlados, essenciais para os processos de semicondutores.

O alvo de silício pode ser adaptado aos diferentes requisitos dos sistemas de pulverização catódica?

Sim, é possível personalizar as dimensões. Isso permite que o alvo se adapte a diversas geometrias de câmara e sistemas de deposição. O ajuste do tamanho do alvo ajuda a otimizar a eficiência da pulverização catódica e a uniformidade do filme em diferentes configurações de produção.

ÚLTIMAS RECOMENDAÇÕES

https://www.samaterials.com/images/sc/1768529895-normal-ST0007.jpg

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Característica	Valor
Composição	Si
Pureza	≥99,99%, ou sob encomenda
Forma	Alvo
Formato	Redonda, retangular
Densidade	2,32 g/cm³
Condutividade térmica	150^{W·m⁻¹·K⁻¹}
Tipo de ligação	Índio, elastômero
Dimensões	Personalizadas

Propriedade	Valor
Composição	Si
Pureza	≥99,99% ou sob medida
Forma	Alvo
Formato	Redonda, retangular
Densidade	2,32 g/cm³
Condutividade térmica	150^{W·m⁻¹·K⁻¹}
Tipo de ligação	Índio, elastômero
Dimensões	Personalizadas

Region & Language

North America

South America

Europe

Asia Pacific

Middle-East

ST11209 Alvo de pulverização de silício, alvo de Si

Alvo de pulverização de silício, Alvo de Si – Descrição

Alvo de pulverização de silício, características do alvo de Si

Alvo de pulverização de silício, alvo de Si Aplicações

Alvo de pulverização de silício, embalagem do alvo de Si

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