Descontinuado (Descontinuado) ST0882 Alvos de Sputtering de Óxido de Gálio, Ga2O3

Descrição dos Alvos de Sputtering de Óxido de Gálio

Os Alvos de Sputtering de Óxido de Gálio, Ga2O3, são fabricados com atenção meticulosa à qualidade e desempenho. Desenvolvidos com uma pureza elevada de ≥99%, esses alvos estão disponíveis em várias formas, incluindo discos e formatos personalizados para atender a diversas exigências industriais. Projetado para excelente confiabilidade, o Ga₂O₃ suporta condições rigorosas, tornando-se uma escolha ideal para deposição de filmes finos de alta precisão na fabricação de semicondutores, optoeletrônicos e outros setores de tecnologia avançada. Sua combinação única de alto ponto de fusão e densidade específica garante estabilidade térmica superior e desempenho químico confiável.

Aplicações dos Alvos de Sputtering de Óxido de Gálio

· Fabricação de Semicondutores: Essencial para processos de deposição de filmes finos em dispositivos semicondutores modernos.
· Optoeletrônicos: Utilizado na produção de LEDs, diodos laser e outros componentes ópticos.
· Revestimentos Superficiais: Ideal para produzir revestimentos uniformes e de alta qualidade em aplicações industriais avançadas.
· Pesquisa e Desenvolvimento: Utilizado em laboratórios para estudos de ciências dos materiais e inovação de novas tecnologias.

Embalagem dos Alvos de Sputtering de Óxido de Gálio

Nossos Alvos de Sputtering de Óxido de Gálio são embalados de forma segura para garantir a integridade ideal do produto durante o manuseio e transporte. As opções de embalagem padrão incluem recipientes vácuo selados, projetados para preservar a alta pureza e desempenho, disponíveis em vários tamanhos para atender às exigências dos clientes.

Perguntas Frequentes

Q: Quais são as principais aplicações dos Alvos de Sputtering de Óxido de Gálio?
A: Eles são predominantemente utilizados na fabricação de semicondutores, optoeletrônicos, revestimentos superficiais e pesquisa de materiais avançados.

Q: Como o alto ponto de fusão do Ga₂O₃ beneficia seu desempenho?
A: O alto ponto de fusão garante estabilidade térmica durante processos de deposição de alta energia, resultando em qualidade e durabilidade aprimoradas dos filmes.

Q: Os Alvos de Sputtering de Óxido de Gálio podem ser fabricados sob medida para atender a requisitos industriais específicos?
A: Sim, eles podem ser produzidos como discos ou personalizados em formatos e tamanhos precisos com base nas especificações do cliente.

Q: Quais medidas de garantia de qualidade estão em vigor para esses alvos?
A: Os alvos são fabricados com um nível de pureza de ≥99% e passam por rigorosos procedimentos de controle de qualidade para garantir conformidade com normas industriais.

Q: Como os Alvos de Sputtering de Óxido de Gálio devem ser armazenados para manter sua qualidade?
A: Eles devem ser armazenados em um ambiente limpo e seco, com mínima exposição a contaminantes, preferencialmente em suas embalagens a vácuo seladas.