Fornos de Tubo 1200C para CVD OTF-1200X-HVC3 Descrição
Fornos de Tubo 1200C para CVD OTF-1200X-HVC3 compreende uma série do forno de tubo OTF-1200X, uma estação de controle de gás de fluxo de massa com precisão, uma estação de alto vácuo e outros componentes essenciais. Esta estação de trabalho possui uma temperatura máxima de funcionamento de 1200°C e pode atingir um nível de vácuo final de 10^-4 torr com o conjunto de selagem fornecido. A estação de controle de gás de fluxo de massa pode misturar até três tipos de gases e permite que os gases misturados fluam para um tubo de quartzo fundido dentro do forno. Essa configuração é ideal para realizar experimentos como deposição de vapor químico (CVD), difusão e outros tratamentos térmicos em condições de vácuo e com proteção de gás de escudo.
Fornos de Tubo 1200C para CVD OTF-1200X-HVC3 Especificações
Série OTF-1200X Forno
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Estrutura do Forno
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- Carcaça de aço de camada dupla com resfriamento por ar.
- Termostato embutido para controlar o resfriamento automaticamente quando a carcaça > 55°C.
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Tubo de Processamento
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- Material: tubo de quartzo fundido
- Um tubo de processamento está incluído com o forno.
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Potência
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2,5KW, 208-240VAC, Monofásico, 50/60Hz
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Temperatura de Trabalho
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- Temp. Max: 1200℃ (1 hr); 1100℃ (contínuo)
- Taxa de Aquecimento: ≤20℃/min
- Precisão de Temp.: ±1.0℃
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Comprimento da Zona de Aquecimento
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- Zona total de aquecimento: 440mm
- Zona de Temp. Constante: 150mm (±1°C)
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Elementos de Aquecimento
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Liga Fe-Cr-Al dopada com Mo
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Controlador de Temperatura
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- Controle automático PID com 30 segmentos programáveis.
- Precisão de temperatura: ±1°C
- Termopar: tipo K embutido no forno
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Vedação de Vácuo
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- Um par de flange de vácuo de aço inoxidável com:
um manômetro mecânico
duas válvulas de agulha
um conector KF-25 para a estação de alto vácuo
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Potência
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100-110W
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Voltagem Classificada
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208-240VAC, Monofásico, 50/60Hz
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Estação de Alto Vácuo
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Estrutura
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Tamanho do carrinho móvel: 600 (L) x 600 (W) x 700(H), mm
Carga máxima: 600 Lbs no topo
Painel de controle da bomba molecular: digital LCD
Interno: bomba de vácuo
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Taxa de Fluxo de Volume
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Nitrogênio N2: 33 L/s
Hélio He: 39 L/s (2340L/minuto)
Hidrogênio H2: 32 L/s
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Faixa de Trabalho
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De 1000 mbar a <1E-7 mbar
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Pressão Final
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<1E-8 mbar (sem vazamentos)
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Controle de Gás de Fluxo em Massa
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Estrutura
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Feito de válvula de aço inoxidável 316
Tanque de mistura de gás: Φ80X120mm
600mm(L) x 745mm(W) x 700mm(H)
Painel de controle com touchscreen colorido de 6" para fácil configuração de parâmetros.
Controle por touchscreen e remoto por PC alternáveis.
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Potência
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23W por canal
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Voltagem Classificada
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AC 220V/50Hz Monofásico
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Fornos de Tubo 1200C para CVD OTF-1200X-HVC3 Aplicações
- Deposição de Vapor Químico (CVD): Usado para depositar filmes finos e revestimentos em substratos misturando e reagindo diferentes gases a altas temperaturas.
- Processos de Difusão: Facilita o movimento de átomos ou moléculas dentro de sólidos, essencial na fabricação de semicondutores e outras ciências dos materiais.
- Recristalização: Ajuda a aliviar tensões internas, melhorando a ductilidade e refinando a microestrutura dos materiais.
- Sinterização: Adequado para compactar e formar massas sólidas a partir de materiais em pó sem liquefazê-los, amplamente utilizado em cerâmica e metalurgia.
- Pesquisa de Materiais: Ideal para estudar as propriedades térmicas e comportamentos de diferentes materiais sob condições atmosféricas controladas.
Fornos de Tubo 1200C para CVD OTF-1200X-HVC3 Embalagem
Nosso Fornos de Tubo 1200C para CVD OTF-1200X-HVC3 é cuidadosamente manuseado durante o armazenamento e transporte para preservar a qualidade do nosso produto em sua condição original.
Especificação
Forno Tube OTF-1200X Série
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Estrutura do Forno
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- Revestimento de aço de dupla camada com resfriamento por ar.
- Termostato embutido para controlar o resfriamento automaticamente quando a caixa > 55°C.
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Tubo de Processamento
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- Material: tubo de quartzo fundido
- Um tubo de processamento está incluído com o forno.
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Poder
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2,5KW, 208-240VAC, Monofásico, 50/60Hz
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Temperatura de Trabalho
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- Temp. máx: 1200℃ (1 hora); 1100℃ (contínuo)
- Velocidade de aquecimento: ≤20℃/min
- Precisão da temperatura: ±1,0℃
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Comprimento da Zona de Aquecimento
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- Zona total de aquecimento: 440mm
- Zona de temperatura constante: 150mm (±1°C)
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Elementos de Aquecimento
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Ligação Fe-Cr-Al dopada com Mo
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Controlador de Temperatura
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- Controle automático PID com 30 etapas programáveis.
- Precisão da temperatura: ±1°C
- Termopar: tipo K embutido no forno
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Vedações a Vácuo
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- Um par de flanges de vácuo em aço inoxidável com:
um manômetro mecânico
duas válvulas de agulha
um conector KF-25 para a estação de alto vácuo
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Poder
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100-110W
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Tensão Nominal
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208-240VAC, Monofásico, 50/60Hz
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Estação de Alto Vácuo
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Estrutura
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Tamanho do carrinho móvel: 600 (L) x 600 (L) x 700 (A), mm
Capacidade máxima: 600 Lbs no topo
Painel de controle da bomba molecular: LCD digital
Interno: bomba de vácuo
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Taxa de Fluxo Volumétrico
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Nitrogênio N2: 33 L/s
Hélio He: 39 L/s (2340L/minuto)
Hidrogênio H2: 32 L/s
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Faixa de Trabalho
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De 1000 mbar a <1E-7 mbar
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Pressão Final
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<1E-8 mbar (sem vazamentos)
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Controle de Fluxo de Gás em Massa
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Estrutura
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Feito de válvula de aço inoxidável 316
Tanque de mistura de gás: Φ80X120mm
600mm(L) x 745mm(W) x 700mm(H)
Painel de controle com tela sensível ao toque colorida de 6" para facilitar a configuração de parâmetros.
Controle por tela sensível ao toque e remoto por PC alternáveis.
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Poder
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23W por canal
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Tensão Nominal
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AC 220V/50Hz Monofásico
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