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ST0191 Alvo de Sputtering Óxido de Tântalo, Ta2O5

Número de catálogo. ST0191
Fórmula química Ta2O5
Número CAS 1314-61-0
Pureza 99.9%, 99.95%, 99.99%
Forma Discos, placas, alvos de coluna, alvos de degrau, personalizados
Sinônimos Alvo de pulverização de óxido de tântalo, alvo de Ta2O5

Alvo de Sputtering de Óxido de Tântalo é um material de alta pureza amplamente utilizado para deposição de filmes finos em revestimentos ópticos, semicondutores e camadas protetoras. Stanford Advanced Materials (SAM) oferece Alvo de Sputtering de Óxido de Tântalo de alta qualidade com preços competitivos.

Produtos relacionados: Alvo de Sputtering de Óxido de Estanho Doped com Flúor (FTO), Alvo de Sputtering de Ferrita de Cobalto, CoFe2O4

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Fórmula química
Ta2O5
Número CAS
1314-61-0
Pureza
99.9%, 99.95%, 99.99%
Forma
Discos, placas, alvos de coluna, alvos de degrau, personalizados
Sinônimos
Alvo de pulverização de óxido de tântalo, alvo de Ta2O5
 
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Composição
SiO₂
Número CAS
7631-86-9
Pureza
≥99%
Forma
Discos ou personalizados
Diameter
2“, 3”, 4“, 5”, 6" ou personalizado
Thickness
0,25“, 0,125” ou personalizado
Bond Type
Cobre ou personalizado
Sinônimos
Alvo de pulverização de dióxido de silício, alvo de SiO2
 
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Composição
TiO₂
Número CAS
13463-67-7
Pureza
99,5% / 99,9% / 99,99% (personalizável)
Forma
Discos ou personalizados
Diâmetro
2", 3", 4", 5", 6" ou personalizado
Espessura
0,25", 0,125" ou personalizado
Tipo de título
Cobre ou personalizado
Sinônimos
Alvo de pulverização de dióxido de titânio, alvo de TiO2
 
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Composição
Nb2O5
Pureza
≥99,95%, ou personalizado
Formulário
Alvo
Forma
Retangular
Dimensões
Personalizado

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    2''

    • 2''
    • 3''
    • 4''
    • 5''
    • 6''
    • Outros
    • Other
    Espessura

    0,25''

    • 0,25''
    • 0,125''
    • Todos
    • Other
    Vinculação

    Sim

    • Sim
    • Não
    • Other
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