ST0138 Alvo de Sputtering de Óxido de Bismuto (Bi2O3)

Descrição do Alvo de Sputter em Óxido de Bismuto (Bi2O3)

O Alvo de Sputter em Óxido de Bismuto (Bi2O3) é projetado para processos de deposição de alto desempenho, fornecendo pureza e consistência essenciais para aplicações industriais avançadas. Fabricado com técnicas de sinterização de ponta, este alvo oferece desempenho confiável em sistemas de sputter RF, garantindo filmes finos uniformes que são críticos para fabricação de dispositivos e aplicações de alta tecnologia. Sua forma personalizável permite tanto discos padrão quanto designs adaptados para atender aos requisitos de produção específicos.

Aplicações do Alvo de Sputter em Óxido de Bismuto (Bi2O3)

· Deposição de Filmes Finos: Ideal para criar filmes uniformes e de alta qualidade na fabricação de microeletrônicos e dispositivos semicondutores.
· Dispositivos Optoeletrônicos: Utilizado na produção de sensores, revestimentos ópticos e tecnologias de display.
· Tecnologias de Revestimento: Aplicado no desenvolvimento de revestimentos de superfície resistentes à corrosão e duráveis.
· Pesquisa e Desenvolvimento: Um material valioso para configurações experimentais em ciência de materiais avançados e prototipagem de dispositivos eletrônicos.

Embalagem do Alvo de Sputter em Óxido de Bismuto (Bi2O3)

Nossos alvos de sputter em Óxido de Bismuto são manuseados com o máximo cuidado para garantir que cheguem aos nossos clientes em condições perfeitas. Cada alvo é selado a vácuo e embalado de forma segura, com embalagens padrão disponíveis em sacos de 5kg e tambores maiores disponíveis mediante solicitação para pedidos em grande volume.

Perguntas Frequentes

Q: Quais são as principais aplicações do Alvo de Sputter em Óxido de Bismuto (Bi2O3)?
A: É utilizado principalmente na deposição de filmes finos para microeletrônica, optoeletrônica e aplicações de sensores, onde filmes uniformes e de alta qualidade são essenciais.

Q: Quais métodos de sputter são compatíveis com este alvo?
A: O alvo é projetado para uso com sistemas de sputter RF e RF-R, oferecendo flexibilidade em vários processos de deposição.

Q: Como o nível de pureza de ≥99% beneficia o processo de sputter?
A: Alta pureza garante mínima contaminação nos filmes depositados, levando a melhor desempenho e confiabilidade dos dispositivos eletrônicos e ópticos.

Q: A forma do alvo pode ser personalizada?
A: Sim, enquanto as opções padrão incluem formas de disco, formas personalizáveis estão disponíveis para atender aos requisitos específicos de fabricação e design.

Q: Quais medidas são tomadas durante a embalagem para garantir a qualidade do produto?
A: Nossos alvos são selados a vácuo e embalados de forma segura para evitar contaminação e danos durante o transporte e armazenamento.