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    Título Óxido superficial em filmes finos de hidreto de ítrio estudado por refletometria de nêutrons
    Autores Trygve Mongstad, Charlotte Platzer-Björkman, Jan Petter Mæhlen, Bjørn C. Hauback, Smagul Zh. Karazhanov, Fabrice Cousin
    Revista Revista de Física Aplicada
    data 05/18/2012
    Doi 10.1063/1.4714517
    Introdução A análise da composição de filmes contendo hidrogênio é um desafio quando se utilizam métodos padrão. A refletometria de nêutrons, por ser um método não destrutivo, é especialmente eficaz devido ao significativo comprimento de espalhamento negativo do hidrogênio. Este estudo demonstra sua aplicação na análise de filmes finos de hidreto de ítrio, onde proporciona um contraste nítido entre os filmes e o óxido superficial, permitindo a estimativa da espessura do óxido e da penetração de oxigênio. Camadas de óxido de 5 a 10 nm foram identificadas em filmes de hidreto de ítrio desprotegidos.
    Citação Mongstad, T.; Platzer-Björkman, C.; Mæhlen, J. P.; Hauback, B. C.; Karazhanov, S. Z.; Cousin, F. Óxido superficial em filmes finos de hidreto de ítrio estudado por refletometria de nêutrons. Journal of Applied Physics 2012. DOI: 10.1063/1.4714517
    Elemento Ítrio (Y)
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