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  • ST0038 Alvo de Sputtering de Ródio (Rh)

    • ST0038 Alvo de Sputtering de Ródio (Rh)

    Número de catálogo. ST0038
    Composição Rh
    Número CAS 7440-16-6
    Pureza ≥99%
    Forma Discos ou feitos sob medida
    Diâmetro 2", 3", 4", 5", 6" ou sob medida
    Espessura 0,25", 0,125" ou sob medida
    Tipo de título Cobre ou personalizado
    Sinônimos Alvo de pulverização de ródio, alvo de Rh

    O alvo de sputtering de Ródio (Rh) é conhecido por seu desempenho eficiente de sputtering e resistência à corrosão. A Stanford Advanced Materials se compromete a fornecer materiais de qualidade por meio de fabricação moderna e controle rigoroso de qualidade.

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    Rhodium (Rh) Sputtering Target
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    ST0038 Alvo de Sputtering de Ródio (Rh)
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    Composição
    Rh
    Número CAS
    7440-16-6
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou feitos sob medida
    Diâmetro
    2", 3", 4", 5", 6" ou sob medida
    Espessura
    0,25", 0,125" ou sob medida
    Tipo de título
    Cobre ou personalizado
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de ródio, alvo de Rh
     
    ST0034 Alvo de Sputtering de Paládio (Pd)
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    Composição
    Pd
    Número CAS
    7440-05-3
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
    Diameter
    2“, 3”, 4“, 5”, 6" ou personalizado
    Thickness
    0,25“, 0,125” ou personalizado
    Bond Type
    Cobre ou personalizado
     
    ST0035 Alvo de Sputtering de Platina (Pt)
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    Composição
    Pt
    Número CAS
    7440-06-4
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
    Diâmetro
    2", 3", 4", 5", 6" ou personalizado
    Espessura
    0,25", 0,125" ou personalizado
    Tipo de título
    Cobre ou personalizado
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de platina, alvo de Pt

    FAQ

    Qual é o prazo de entrega de um alvo de pulverização de ródio com dimensões personalizadas?

    R: Os prazos de entrega variam de acordo com as especificações, mas geralmente oscilam entre 2 e 4 semanas para formatos personalizados. Os tamanhos padrão (discos de 2" a 6") costumam estar em estoque ou têm prazos de entrega mais curtos. Entre em contato conosco para obter um orçamento específico.

     

    Você recomenda colar alvos de ródio em uma placa de suporte?

    R: Sim, devido à condutividade térmica moderada do ródio, recomendamos fixar o alvo a uma placa de suporte de cobre, especialmente para aplicações de pulverização catódica em corrente contínua (CC) de alta potência. Oferecemos serviços de fixação com índio e elastômero para garantir um contato térmico ideal e evitar rachaduras no alvo.

     

    Qual é a diferença entre alvos de ródio com pureza de 99% e 99,99%?

    R: Alvos de maior pureza (99,99%) são normalmente exigidos para aplicações em semicondutores e pesquisas avançadas, nas quais mesmo contaminantes mínimos podem afetar as propriedades do filme. Nossos alvos com 99% de pureza são adequados para diversas aplicações de revestimentos ópticos e decorativos. Por favor, especifique sua aplicação ao fazer sua consulta.

     

    Você poderia informar a taxa de pulverização típica do seu alvo de ródio?

    R: Embora as taxas de pulverização dependam do seu equipamento específico e dos parâmetros utilizados (potência, pressão, distância entre o alvo e o substrato), nossa equipe de engenharia pode fornecer dados de referência e recomendações de processo com base na configuração do seu sistema.

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