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  • Alvo de pulverização
  • Alvo de Sputtering de Óxido de Magnésio (MgO) ST0175

    • Alvo de Sputtering de Óxido de Magnésio (MgO) ST0175

    Número de catálogo. ST0175
    Composição MgO
    Número CAS 1309-48-4
    Pureza ≥99%
    Formas Discos ou personalizados
    Diameter 2“, 3”, 4“, 5”, 6" ou personalizado
    Thickness 0,25“, 0,125” ou personalizado
    Bond Type Cobre ou personalizado
    Sinônimos Alvo de pulverização de óxido de magnésio, alvo de MgO

    O Alvo de Sputtering de Óxido de Magnésio (MgO) é desenvolvido para fornecer desempenho de deposição excelente e qualidade consistente. A Stanford Advanced Materials é reconhecida por sua tecnologia de materiais avançados e compromisso com a inovação industrial.

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    Magnesium (Mg) Sputtering Target
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    ST0031 Alvo de Sputtering de Neodímio (Nd)
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    Niobium (Nb) Sputtering Target
    ST0033 Alvo de Sputtering de Nióbio (Nb)
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    Platinum (Pt) Sputtering Target
    ST0035 Alvo de Sputtering de Platina (Pt)
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    NB0036 Alvo de nióbio, alvo de Nb
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