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Alvo de Sputtering de Óxido de Magnésio (MgO) ST0175

Número de catálogo. ST0175
Composição MgO
Número CAS 1309-48-4
Pureza ≥99%
Forma Discos ou personalizados
Diameter 2“, 3”, 4“, 5”, 6" ou personalizado
Thickness 0,25“, 0,125” ou personalizado
Bond Type Cobre ou personalizado
Sinônimos Alvo de pulverização de óxido de magnésio, alvo de MgO

O Alvo de Sputtering de Óxido de Magnésio (MgO) é desenvolvido para fornecer desempenho de deposição excelente e qualidade consistente. A Stanford Advanced Materials é reconhecida por sua tecnologia de materiais avançados e compromisso com a inovação industrial.

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Composição
MgO
Número CAS
1309-48-4
Pureza
≥99%
Forma
Discos ou personalizados
Diameter
2“, 3”, 4“, 5”, 6" ou personalizado
Thickness
0,25“, 0,125” ou personalizado
Bond Type
Cobre ou personalizado
Sinônimos
Alvo de pulverização de óxido de magnésio, alvo de MgO
 
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Composição
Cr₂O₃
Número CAS
1308-38-9
Pureza
≥99%
Forma
Discos ou personalizados
Diameter
2“, 3”, 4“, 5”, 6" ou personalizado
Thickness
0,25“, 0,125” ou personalizado
Bond Type
Cobre ou personalizado
Sinônimos
Alvo de pulverização de óxido de cromo, alvo de Cr2O3
 
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Composição
CuO
Número CAS
1317-38-0
Pureza
≥99%
Forma
Discos ou personalizados
Diameter
2“, 3”, 4“, 5”, 6" ou personalizado
Thickness
0,25“, 0,125” ou personalizado
Bond Type
Cobre ou personalizado
Sinônimos
Alvo de pulverização de óxido de cobre, alvo de CuO
 
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Composição
SrTiO₃
Número CAS
12060-59-2
Pureza
≥99%
Forma
Discos ou personalizados
Diameter
2“, 3”, 4“, 5”, 6" ou personalizado
Thickness
0,25“, 0,125” ou personalizado
Bond Type
Cobre ou personalizado
Sinônimos
Alvo de pulverização de titanato de estrôncio, alvo SrTiO3

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    Diâmetro

    2''

    • 2''
    • 3''
    • 4''
    • 5''
    • 6''
    • Outros
    • Other
    Espessura

    0,25''

    • 0,25''
    • 0,125''
    • Todos
    • Other
    Vinculação

    Sim

    • Sim
    • Não
    • Other
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