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  • ST0189 Alvo de Sputtering de Titanato de Estrôncio (SrTiO3)

    • ST0189 Alvo de Sputtering de Titanato de Estrôncio (SrTiO3)

    Número de catálogo. ST0189
    Composição SrTiO₃
    Número CAS 12060-59-2
    Pureza ≥99%
    Forma Discos ou feitos sob medida
    Diâmetro 2", 3", 4", 5", 6" ou sob medida
    Espessura 0,25", 0,125" ou sob medida
    Tipo de título Elastômero
    Sinônimos Alvo de pulverização de titanato de estrôncio, alvo de SrTiO₃

    Stanford Advanced Materials está comprometida com inovações pioneiras na área de materiais avançados. Nosso alvo de pulverização de titanato de estrôncio (SrTiO₃) é uma prova de qualidade e precisão, atendendo às rigorosas exigências das indústrias de alta tecnologia.

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    ST0189 Alvo de Sputtering de Titanato de Estrôncio (SrTiO3)
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    Composição
    SrTiO₃
    Número CAS
    12060-59-2
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou feitos sob medida
    Diâmetro
    2", 3", 4", 5", 6" ou sob medida
    Espessura
    0,25", 0,125" ou sob medida
    Tipo de título
    Elastômero
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de titanato de estrôncio, alvo de SrTiO₃
     
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    Composição
    BaTiO₃
    Número CAS
    12047-27-7
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
    Diameter
    2“, 3”, 4“, 5”, 6" ou personalizado
    Thickness
    0,25“, 0,125” ou personalizado
    Bond Type
    Cobre ou personalizado
     
    Alvo de Sputtering de Óxido de Magnésio (MgO) ST0175
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    Composição
    MgO
    Número CAS
    1309-48-4
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
    Diameter
    2“, 3”, 4“, 5”, 6" ou personalizado
    Thickness
    0,25“, 0,125” ou personalizado
    Bond Type
    Cobre ou personalizado
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de óxido de magnésio, alvo de MgO
     
    ST0204 Alvo de Sputtering de Óxido de Zinco com Alumina (ZnO/Al2O3)
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    Composição
    ZnO/Al₂O₃
    Número CAS
    N/A
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
    Diameter
    2“, 3”, 4“, 5”, 6" ou personalizado
    Thickness
    0,25“, 0,125” ou personalizado
    Bond Type
    Cobre ou personalizado
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de óxido de zinco e alumina, alvo de ZnO/Al2O3

    FAQ

    Qual é a principal finalidade das alvos de pulverização de titanato de estrôncio?

    Eles são utilizados principalmente para o depósito de filmes finos na fabricação de semicondutores, revestimentos ópticos e outras aplicações eletrônicas.

    De que forma a alta pureza (≥99%) do alvo afeta o desempenho?

    A alta pureza garante um mínimo de impurezas, o que é fundamental para obter uma qualidade consistente do filme e propriedades elétricas e térmicas ideais.

    É possível personalizar a forma e o tamanho do alvo?

    Sim, nossos alvos de pulverização de titanato de estrôncio podem ser personalizados para atender a requisitos específicos de projeto.

    Quais setores costumam utilizar alvos de pulverização de titanato de estrôncio?

    Eles são amplamente utilizados na fabricação de semicondutores, na optoeletrônica e em áreas de pesquisa avançada, incluindo tecnologia fotovoltaica e de sensores.

    Como o produto é embalado para evitar danos durante o transporte?

    Cada produto é embalado com segurança, utilizando materiais de proteção e soluções de embalagem personalizadas, para garantir que chegue em perfeitas condições.

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