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ST0217 Alvo de Sputtering em Nitreto de Titânio (TiN)

Número de catálogo. ST0217
Composição TiN
Número CAS 25583-20-4
Pureza ≥99%
Forma Discos ou personalizados
Sinônimos Alvo de pulverização de nitreto de titânio, alvo de TiN

O alvo de espitação de nitreto de titânio (TiN) da Stanford Advanced Materials é projetado para atender às exigências exatas de aplicações de espitação de alto desempenho. Nossa marca é reconhecida por materiais inovadores e fabricação precisa, fornecendo produtos que superam consistentemente os padrões da indústria.

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Titanium Nitride (TiN) Sputtering Target
Titanium Nitride (TiN) Sputtering Target
Descrição da
Especificação
SDS
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Composição
TiN
Número CAS
25583-20-4
Pureza
≥99%
Forma
Discos ou personalizados
Sinônimos
Alvo de pulverização de nitreto de titânio, alvo de TiN
 
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Composição
AlN
Número CAS
24304-00-5
Pureza
≥99%
Forma
Discos ou personalizados
 
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Composição
Si₃N₄
Número CAS
12033-89-5
Pureza
≥99%
Forma
Discos ou personalizados
Sinônimos
Alvo de pulverização de nitreto de silício, alvo de Si3N4, alvo de pulverização de cerâmica
 
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Composição
SiC
Número CAS
409-21-2
Pureza
≥99%
Forma
Discos ou personalizados
Sinônimos
Alvo de pulverização de carbeto de silício, alvo de SiC

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País*

Brasil

    Pureza

    99.9%

    • 99.9%
    • 99.5%
    • 99.99%
    • 99.999%
    • Other
    Diâmetro

    2''

    • 2''
    • 3''
    • 4''
    • 5''
    • 6''
    • Outros
    • Other
    Espessura

    0,25''

    • 0,25''
    • 0,125''
    • Todos
    • Other
    Vinculação

    Sim

    • Sim
    • Não
    • Other

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