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  • ST0200 Alvo de Sputtering de Óxido de Vanádio (V2O5)

    • ST0200 Alvo de Sputtering de Óxido de Vanádio (V2O5)

    Número de catálogo. ST0200
    Composição V₂O₅
    Número CAS 1314-62-1
    Pureza ≥99%
    Forma Discos ou feitos sob medida
    Diâmetro 2", 3", 4", 5", 6" ou sob medida
    Espessura 0,25", 0,125" ou sob medida
    Tipo de título Índio, elastômero
    Sinônimos Alvo de pulverização de óxido de vanádio, alvo de V₂O₅

    Nossa marca é reconhecida por ser pioneira em soluções avançadas de materiais e por fornecer alvos de pulverização confiáveis e de alto desempenho para aplicações industriais modernas. Com anos de experiência em engenharia de materiais, garantimos que cada produto atenda aos mais altos padrões de qualidade.

    Produtos relacionados: Alvo de pulverização de óxido de vanádio (V₂O₅), alvo de siliceto de vanádio (VSi₂), alvo de pulverização de carboneto de vanádio (VC)

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    ST0200 Alvo de Sputtering de Óxido de Vanádio (V2O5)
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    Composição
    V₂O₅
    Número CAS
    1314-62-1
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou feitos sob medida
    Diâmetro
    2", 3", 4", 5", 6" ou sob medida
    Espessura
    0,25", 0,125" ou sob medida
    Tipo de título
    Índio, elastômero
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de óxido de vanádio, alvo de V₂O₅
     
    ST0055 Alvo de Sputtering de Vanádio (V)
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    Composição
    V
    Número CAS
    7440-62-2
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
    Diameter
    2“, 3”, 4“, 5”, 6" ou personalizado
    Thickness
    0,25“, 0,125” ou personalizado
    Bond Type
    Cobre ou personalizado
     
    ST0197 Alvo de pulverização de dióxido de titânio (TiO2)
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    Composição
    TiO₂
    Número CAS
    13463-67-7
    Pureza
    99,5% / 99,9% / 99,99% (personalizável)
    Forma
    Discos ou personalizados
    Diâmetro
    2", 3", 4", 5", 6" ou personalizado
    Espessura
    0,25", 0,125" ou personalizado
    Tipo de título
    Cobre ou personalizado
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de dióxido de titânio, alvo de TiO2
     
    ST0920 Alvo de Sputtering de Dióxido de Vanádio, VO2
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    Composição
    VO₂
    Número CAS
    12036-21-4
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados

    FAQ

    Quais são as vantagens de usar um alvo de pulverização de óxido de vanádio (V₂O₅)?

    O produto oferece alta pureza e uniformidade, garantindo uma deposição consistente de filmes finos e excelente desempenho em processos de pulverização por RF.

    Como funciona o processo de pulverização por RF com esse alvo?

    A pulverização por RF utiliza energia de radiofrequência para gerar um plasma que desprende partículas do alvo, as quais, em seguida, se depositam sobre um substrato para formar uma película fina.

    O alvo pode ser fabricado em formatos personalizados?

    Sim, além dos discos padrão, o alvo pode ser fabricado sob medida para atender a requisitos específicos de aplicação.

    Como a densidade do material afeta o processo de pulverização catódica?

    Uma densidade de 3,36 g/cm³ contribui para um desempenho estável e consistente do processo de pulverização catódica, garantindo a remoção uniforme do material durante a deposição.

    Quais setores se beneficiam mais com o uso do alvo de pulverização de óxido de vanádio (V₂O₅)?

    É amplamente utilizado na fabricação de semicondutores, na produção de células fotovoltaicas, em tecnologias avançadas de telas e em aplicações especializadas de revestimento.

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