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ST6545 Alvo Rotativo de Molibdênio

Número de catálogo. ST6545
Material Mo
Número CAS 7439-98-7
Dimensões Personalizado
Pureza ≥99,95% ou 99,97%
Densidade ≥10,15 g/cm3
Formulário Alvo

Alvos de Sputtering Rotativo de Molibdênio são materiais de alta performance projetados para deposição de filmes finos em aplicações de revestimento em grande área. Stanford Advanced Materials (SAM) fornece alvos de sputtering de molibdênio de alta pureza para deposição de filmes finos em displays, células solares e revestimentos ópticos. Estes alvos garantem qualidade uniforme de filmes, excelente condutividade e longa vida útil, com opções personalizáveis para atender a diversas necessidades da indústria.

Outras formas: Alvo de Sputtering de Molibdênio, Alvo de Sputtering Planar de Molibdênio (Mo)

Produtos Relacionados: Alvo de Sputtering de Molibdênio Rênio, Alvo de Sputtering de Disilicato de Molibdênio, Alvo de Sputtering de Silício de Molibdênio, Alvo de Sputtering de Seleneto de Molibdênio, Alvo de Sputtering de Boreto de Molibdênio

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