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  • Alvo de pulverização
  • ST0022 Alvo de Sputtering de Irídio (Ir)

    • ST0022 Alvo de Sputtering de Irídio (Ir)

    Número de catálogo. ST0022
    Composição Ir
    Número CAS 7439-88-5
    Pureza ≥99%
    Forma Discos ou personalizados
    Diâmetro 2", 3", 4", 5", 6" ou personalizado
    Espessura 0,25", 0,125" ou personalizado
    Tipo de título Cobre ou personalizado
    Sinônimos Alvo de irídio para pulverização catódica, alvo de irídio

    Stanford Advanced Materials é um provedor líder de materiais com tecnologia avançada projetados para aplicações industriais de alto desempenho. Nosso compromisso com a inovação e qualidade garante que cada produto atenda aos padrões rigorosos exigidos pelos mercados tecnológicos modernos.

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    FAQ

    Qual é o prazo de entrega de um alvo de pulverização catódica de irídio personalizado?

    A: O prazo de entrega típico para tamanhos personalizados é de 2 a 4 semanas após a confirmação do pedido. Os tamanhos de disco padrão (2"-6") podem ser enviados antes. Entre em contato conosco para saber a disponibilidade atual.

     

    Por que escolher o Iridium em vez de outros metais do grupo da platina, como a platina ou o ródio?

    A: O irídio oferece o ponto de fusão mais alto (2.446°C) e a melhor resistência à corrosão entre os metais do grupo da platina, o que o torna ideal para aplicações em ambientes extremos, óptica de raios X e revestimentos de alta temperatura onde outros materiais se degradariam.

    Você recomenda a colagem de alvos de Iridium?

    A: Sim, devido ao alto ponto de fusão do irídio e às altas densidades de potência frequentemente usadas com esse material, recomendamos fortemente a ligação a uma placa de suporte de cobre usando índio ou elastômero para garantir o gerenciamento térmico adequado.

    Qual é a diferença entre alvos de irídio com 99% e 99,95% de pureza?

    A: A pureza de 99% é adequada para a maioria dos revestimentos ópticos e de proteção. A pureza de 99,95% (3N5) é recomendada para aplicações em semicondutores, armazenamento de dados e pesquisa avançada, em que traços de impurezas podem afetar o desempenho do dispositivo.

    ÚLTIMAS RECOMENDAÇÕES

    https://www.samaterials.com/images/sc/1768529895-normal-ST0007.jpg
    ST0007 Alvo de Sputtering de Cálcio (Ca)
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    Lanthanum (La) Sputtering Target
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    Magnesium (Mg) Sputtering Target
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    Molybdenum Sputtering Target 99.95%, Dia. 6 inch
    ST0030 Alvo de pulverização de molibdênio (Mo)
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    Neodymium (Nd) Sputtering Target
    ST0031 Alvo de Sputtering de Neodímio (Nd)
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    Niobium (Nb) Sputtering Target
    ST0033 Alvo de Sputtering de Nióbio (Nb)
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    Platinum (Pt) Sputtering Target
    ST0035 Alvo de Sputtering de Platina (Pt)
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    Praseodymium (Pr) Sputtering Target
    ST0036 Alvo de Sputtering de Praseodímio (Pr)
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