ST0531 Alvo de pulverização de tantalato de lítio (LiTaO3)

Descrição do Alvo de Sputtering de Tantalato de Lítio

O Alvo de Sputtering de Tantalato de Lítio é projetado para atender às exigências rigorosas dos processos de sputtering modernos. Fabricado com precisão, este alvo oferece excelente integridade estrutural e estabilidade térmica, tornando-o ideal para modulação óptica, dispositivos SAW e diversas aplicações eletrônicas. Sua alta pureza e formas personalizáveis garantem uma deposição de filme consistente e uniforme, apoiando tanto a produção industrial quanto as aplicações de pesquisa.

Aplicações do Alvo de Sputtering de Tantalato de Lítio

· Optoeletrônica: Utilizado na fabricação de moduladores ópticos e dispositivos fotônicos.
· Dispositivos de Ondas Acústicas de Superfície (SAW): Importante para a produção de sensores e componentes de comunicação.
· Componentes Eletrônicos: Fornece filmes de alta qualidade para capacitores, transdutores e outros dispositivos eletrônicos avançados.
· Pesquisa e Desenvolvimento: Ideal para configurações experimentais em ciência dos materiais e pesquisa em tecnologia avançada.

Embalagem do Alvo de Sputtering de Tantalato de Lítio

Nossa embalagem do Alvo de Sputtering de Tantalato de Lítio é cuidadosamente realizada para preservar sua qualidade e garantir desempenho ideal. Cada alvo é selado a vácuo para proteger contra contaminação, com soluções de embalagem personalizadas disponíveis para atender às suas necessidades específicas.

Perguntas Frequentes

Q: Quais indústrias geralmente utilizam Alvos de Sputtering de Tantalato de Lítio?
A: Indústrias como optoeletrônica, telecomunicações, fabricação de semicondutores e tecnologia de sensores utilizam frequentemente esses alvos.

Q: Como o Tantalato de Lítio beneficia as aplicações de sputtering?
A: O Tantalato de Lítio oferece excelente estabilidade térmica e integridade estrutural, assegurando deposição uniforme de filmes e desempenho aprimorado em processos de sputtering de alta precisão.

Q: O alvo pode ser fornecido em formas ou tamanhos personalizados?
A: Sim, o Alvo de Sputtering de Tantalato de Lítio está disponível em formas e tamanhos personalizados para atender às necessidades específicas da sua aplicação.

Q: Por que a alta pureza (≥99%) é significativa para este alvo?
A: Alta pureza garante mínimas impurezas durante a deposição do filme, o que é crucial para alcançar propriedades elétricas e ópticas consistentes em aplicações avançadas.

Q: Quais condições de armazenamento são recomendadas para o alvo?
A: Recomenda-se armazenar o alvo em um ambiente limpo, seco e controlado em temperatura, preferencialmente em sua embalagem original selada a vácuo, para manter seu desempenho e longevidade.