ST0172 Alvo de Sputtering de Nióbato de Lítio (LiNbO₃)

Descrição do Alvo de Sputtering de Niobato de Lítio (LiNbO₃)

O Alvo de Sputtering de Niobato de Lítio (LiNbO₃) é projetado para aplicações de alto desempenho em deposição de filmes finos. Fabricado com precisão, apresenta um nível de pureza elevado (≥99%) e pode ser produzido em discos ou formas personalizadas para atender requisitos específicos de aplicação. Com um ponto de fusão de 1253℃ e uma densidade de 4,64 g/cm³, este alvo mantém excelente estabilidade térmica durante os processos de sputtering RF e RF-R. Seu desempenho confiável o torna uma escolha ideal para aplicações críticas nos setores de eletrônica, fotônica e fabricação de dispositivos ópticos.

Aplicações do Alvo de Sputtering de Niobato de Lítio (LiNbO₃)

· Dispositivos Ópticos: Essencial para a fabricação de moduladores, guias de onda e outros componentes ópticos.
· Telecomunicações: Usado em dispositivos que requerem conversão de frequência precisa e processamento de sinal em alta velocidade.
· Dispositivos Piezoelétricos: Integrantes em sensores e atuadores devido às propriedades eletromecânicas exclusivas do niobato de lítio.
· Aplicações Ópticas Não Lineares: Adequado para moduladores acusto-ópticos e dispositivos que exploram características ópticas não lineares.
· Pesquisa e Desenvolvimento: Usado extensivamente em pesquisas científicas para deposição experimental de filmes finos e estudos de ciência dos materiais.

Embalagem do Alvo de Sputtering de Niobato de Lítio (LiNbO₃)

Nossos Alvos de Sputtering de Niobato de Lítio são cuidadosamente embalados para garantir preservação e proteção otimizadas durante o armazenamento e transporte. Os produtos são entregues em recipientes selados a vácuo com opções de peso e tamanho personalizadas para atender a especificações variadas dos clientes.

Perguntas Frequentes

P: Quais são as principais aplicações do alvo de sputtering de niobato de lítio?
R: É utilizado principalmente em processos de deposição de filmes finos para fabricação de dispositivos ópticos, componentes de telecomunicações, sensores piezoelétricos e outras aplicações de alta tecnologia.

P: Quais métodos de sputtering podem ser usados com este alvo?
R: O alvo é projetado para processos de sputtering RF e RF-R, oferecendo flexibilidade para várias técnicas de deposição.

P: Como o nível de pureza de ≥99% impacta o desempenho?
R: Um nível de pureza elevado minimiza impurezas e defeitos, assegurando desempenho consistente e confiável em aplicações industriais exigentes.

P: Estão disponíveis tamanhos e formas personalizados para necessidades específicas de aplicação?
R: Sim, os alvos podem ser feitos sob medida em várias formas, incluindo discos, para atender os requisitos precisos do seu projeto.

P: Quais benefícios o alto ponto de fusão de 1253℃ proporciona?
R: O alto ponto de fusão garante excelente estabilidade térmica durante o sputtering, prevenindo a degradação do material do alvo em condições de alta energia.