ST0215 Alvo de Sputtering de Nitreto de Silício (Si₃N₄)

Descrição do alvo de pulverização de nitreto de silício (Si3N4)

Nosso Alvo de Sputtering de Nitreto de Silício (Si3N4) é produzido usando sinterização por prensagem a quente seguida de usinagem de precisão para obter uma estrutura de grão fino (2-5 μm) e densidade relativa >99%. Essa abordagem de fabricação minimiza a geração de partículas durante o sputtering e garante uma erosão consistente em toda a superfície do alvo.

A combinação exclusiva de propriedades do nitreto de silício - alta dureza, excelente estabilidade térmica e isolamento elétrico excepcional - faz dele o material preferido para aplicações exigentes de filmes finos. Cada alvo de sputtering de Si3N4 é polido para um acabamento de superfície de <0,5 μm Ra e passa por uma rigorosa inspeção de qualidade antes de ser selado a vácuo em condições de sala limpa para evitar contaminação.

Projetado principalmente para sistemas de sputtering RF e RF-reativo, esse alvo de cerâmica oferece propriedades de filme repetíveis, execução após execução, seja em ambientes de pesquisa ou em produção de alto volume.

Especificação do alvo de sputtering de nitreto de silício (Si3N4)

Aplicações de alvos de pulverização de nitreto de silício (Si3N4)

Os alvos de sputtering denitreto de silício são essenciais para depositar filmes finos duros, isolantes e protetores para

• Fabricação de semicondutores: Essencial para camadas de passivação em circuitos integrados (ICs) para proteção contra umidade, corrosão e contaminação iônica

• Microeletrônica e MEMS: Usados como dielétricos de porta e camadas isolantes em sensores e sistemas microeletromecânicos

• Revestimentos ópticos: Deposita filmes duráveis e rígidos para revestimentos antirreflexo, camadas protetoras em lentes e componentes de laser

• Barreiras de difusão: Cria barreiras eficazes para evitar a interdifusão entre camadas de metal e semicondutoras

• Revestimentos tribológicos avançados: Oferece resistência ao desgaste e à corrosão para componentes de engenharia de precisão

• Pesquisa de filmes finos: Frequentemente utilizado em laboratórios de ciência de materiais para desenvolvimento e caracterização de processos

Embalagem de alvo de pulverização de nitreto de silício (Si3N4)

Nossos alvos de pulverização de nitreto de silício são fabricados de acordo com especificações precisas e cuidadosamente embalados para manter a alta qualidade e integridade da superfície. Cada alvo passa por uma limpeza em um ambiente de sala limpa Classe 100 antes de ser selado a vácuo em uma embalagem com barreira contra umidade para proteger contra contaminação e oxidação durante o armazenamento e o transporte. Soluções de embalagem personalizadas estão disponíveis para atender às necessidades específicas dos clientes, garantindo que cada alvo chegue em condições ideais para uso imediato.