Substrato de cristal de dióxido de titânio rutilo (TiO2) CY2356

Número de catálogo.	CY2356
Dimensões	5×5×10mm, 5×10×10mm, 10×10×0,5mm,
Material	TiO2
Método de crescimento	Método da chama, método da zona flutuante

Nossos substratos de dióxido de titânio cultivados em Czochralski não dopados de grau óptico com alta homogeneidade óptica, excluindo o núcleo central dos buquês de cristal, sem estrias visíveis com sombreamento, inclusões e bolhas.

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Substrato de cristal de dióxido de titânio rutilo (TiO2) CY2356

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Dimensões

5×5×10mm, 5×10×10mm, 10×10×0,5mm,

Material

TiO2

Método de crescimento

Método da chama, método da zona flutuante

Wafer de safira CY2173

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Material

Al2O3

Espessura

0,35-1 mm, ou personalizado

Diâmetro

Ø 1-8", ou personalizado

Formulário

Wafer

Pureza

≥99.999%

Sinônimos

Pastilha de safira, pastilha de Al2O3

Wafer de silício CY2174

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Material

Espessura

0,25-1 mm, ou personalizado

Diâmetro

Ø 2-12", ou personalizado

Pureza

≥99,999%, ou personalizado

Sinônimos

Pastilha de silício, pastilha de Si

Wafer de carbeto de silício CY2175

Adicionar à lista

Material

SiC

Espessura

260 um a 500 um, ou personalizado

Diâmetro

Ø 1"-12", ou personalizado

Formulário

Wafer

Sinônimos

Pastilha de carbeto de silício, pastilha de SiC

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Principal parâmetro de capacidade
Estrutura do cristal	Sistema tetragonal
Constante de rede	a=4,5936Å c=2,9582 Å
Método de crescimento	Método da chama, método da zona flutuante
Densidade	4,26（g/cm3）
Ponto de fusão	1870°C
Capacidade de calor	0.17（25°C）
Transmissão	0,5～4,5um
Índice de refração	no=2,47 ne=2,73 em λ=1,3um
Coeficiente termo-óptico	dη/dT：a：-0.72×106/k c：-0.42×10-6/k
Coeficiente de expansão linear	a：7,14×106 c：9,19×106
Dureza	7（mohs）
Haste de cristal	Φ25mm×90mm
Orientação	<001>, <110>, <100>, <111>
Tamanho padrão	5×5×10mm, 5×10×10mm, 10×10×0,5mm, diâmetro 20 mm × 0,5 mm
Polimento	Polido em um ou dois lados
Tolerância e qualidade óptica	Tolerância de dimensão: +0,1 mm, Tolerância de orientação: ±0,5 o Paralelismo: <30", Planicidade: <λ/4, Verticalidade: <30", Qualidade da superfície: 10/5

Parâmetro de capacidade principal
Estrutura cristalina	Sistema tetragonal
Constante de rede	a=4,5936Å c=2,9582 Å
Método de crescimento	Método da chama, método da zona flutuante
Densidade	4,26（g/cm3）
Ponto de fusão	1870°C
Capacidade de calor	0.17（25°C）
Transmissão	0,5～4,5um
Índice de refração	no=2,47 ne=2,73 em λ=1,3um
Coeficiente termo-óptico	dη/dT：a：-0.72×106/k c：-0.42×10-6/k
Coeficiente de expansão linear	a：7,14×106 c：9,19×106
Dureza	7（mohs）
Haste de cristal	Φ25mm×90mm
Orientação	<001>, <110>, <100>, <111>
Tamanho padrão	5×5×10mm, 5×10×10mm, 10×10×0,5mm, diâmetro 20 mm × 0,5 mm
Polimento	Polido em um ou dois lados
Tolerância e qualidade óptica	Tolerância de dimensão: +0,1 mm, Tolerância de orientação: ±0,5 o Paralelismo: <30", Planicidade: <λ/4, Verticalidade: <30", Qualidade da superfície: 10/5

Substrato de cristal de dióxido de titânio rutilo (TiO2) CY2356

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