Substrato de cristal de dióxido de titânio rutilo (TiO2) CY2356

Name: CY2356 Rutile Titanium Dioxide (TiO2) Crystal Substrate
SKU: CY2356
Availability: InStock
Rating: 4.9 (166 reviews)

Número de catálogo.	CY2356
Material	TiO₂ rutílico (dióxido de titânio)
Pureza	>99,99%
Orientação	<001>, <110>, <100>, <111>
Método de crescimento	Método da chama, método da zona flutuante
Estrutura cristalina	Tetragonal
Parâmetro de rede	a = 4,5936 Å, c = 2,9582 Å
Dimensões	5×5×10 mm, 5×10×10 mm, 10×10×0,5 mm, diâmetro 20×0,5 mm

SAM fornece substratos monocristalinos de TiO₂ de rutilo de alta pureza (99,99% de pureza) para deposição de filmes finos, revestimentos ópticos e aplicações em sensores biomédicos. Com alto índice de refração (no = 2,47, ne = 2,73 a 1,3 µm), excelente estabilidade térmica e orientações disponíveis, incluindo <001>, <110>, <100> e <111>, esses substratos são ideais para o crescimento epitaxial de filmes finos de óxido e revestimentos funcionais. Dimensões personalizadas disponíveis mediante solicitação.

Produtos relacionados: Substratos de cristal de KTaO₃, substratos de cristal de LSAT, substratos de cristal de LiF, substrato de cristal único de antimonieto de gálio.

Pedido de cotação

Adicionar à comparação

Rutile Titanium Dioxide (TiO2) Crystal Substrate

Descrição da

Especificação

SDS

Avaliações

Comparar itens semelhantes

Mostrar diferenças

Este item

Substrato de cristal de dióxido de titânio rutilo (TiO2) CY2356

Adicionar à lista

Material

TiO₂ rutílico (dióxido de titânio)

Pureza

>99,99%

Orientação

<001>, <110>, <100>, <111>

Método de crescimento

Método da chama, método da zona flutuante

Estrutura cristalina

Tetragonal

Parâmetro de rede

a = 4,5936 Å, c = 2,9582 Å

Dimensões

5×5×10 mm, 5×10×10 mm, 10×10×0,5 mm, diâmetro 20×0,5 mm

CY2156 Substrato monocristalino de antimoneto de gálio (GaSb)

Adicionar à lista

Pureza

99,99%

Fórmula química

GaSb

Diâmetro

2", 3", 4"

Espessura

500 ± 25 μm, 600 ± 25 μm, 800 ± 25 μm

Orientação

(100) / (111) ±0,5°

NR2172 Wafer de nitreto de gálio

Adicionar à lista

Material

GaN

Espessura

300-450um

Diâmetro

Ø 2" / Ø 4" /Ø 6"

Wafer de safira CY2173

Adicionar à lista

Material

Al2O3

Espessura

0,35-1 mm, ou personalizado

Diâmetro

Ø 1-8", ou personalizado

Formulário

Wafer

Pureza

≥99.999%

Sinônimos

Pastilha de safira, pastilha de Al2O3

FAQ

P1: Quais são as principais aplicações dos substratos de TiO₂ monocristalino de rutilo?

Os substratos de TiO₂ de rutilo são utilizados na deposição de filmes finos (filmes finos ferroelétricos, piezoelétricos e supercondutores), em dispositivos ópticos polarizadores (isoladores e divisores de feixe) e em sensores biomédicos. Seu alto índice de refração e estabilidade térmica os tornam versáteis para aplicações em pesquisa e na indústria.

P2: Quais orientações estão disponíveis para substratos de cristal único de TiO₂?

Oferecemos as orientações <001>, <110>, <100> e <111>. A orientação <001> é a mais comumente utilizada para o crescimento epitaxial de filmes finos. Orientações personalizadas estão disponíveis mediante solicitação.

P3: Qual é a pureza dos seus substratos de TiO₂ monocristalinos?

Nossos substratos de TiO₂ monocristalinos apresentam pureza superior a 99,99%, garantindo alta qualidade cristalina e o mínimo de defeitos relacionados a impurezas para aplicações em que a superfície é um fator crítico.

P4: Posso solicitar dimensões ou orientações personalizadas?

Sim. Oferecemos dimensões, orientações e opções de polimento personalizadas (em um ou nos dois lados). Entre em contato conosco com suas necessidades específicas.

P5: Como os substratos de TiO₂ devem ser armazenados e manuseados?

Armazene os substratos de TiO₂ em um ambiente limpo e seco, dentro da embalagem original do wafer. Manuseie-os com luvas limpas e pinças a vácuo, evitando tocar na superfície do substrato. Para aplicações de crescimento epitaxial, recomendamos o armazenamento em ambiente de sala limpa antes do uso.

ÚLTIMAS RECOMENDAÇÕES

GA2156 Gallium Antimonide Single Crystal Substrate

CY2156 Substrato monocristalino de antimoneto de gálio (GaSb)

NR2172 Wafer de nitreto de gálio

https://www.samaterials.com/images/sc/1765956847-normal-CY2173.jpg

Wafer de safira CY2173

Wafer de silício CY2174

Wafer de carbeto de silício CY2175

GA2268 Pastilha de gálio e antimônio (GaSb)

MG2274 Magnesium Oxide Wafers Substrates

Substratos de wafers de óxido de magnésio MG2274

SC2275 Wafer de óxido térmico de silício

SOLICITAR UM ORÇAMENTO

Envie-nos uma consulta hoje mesmo para saber mais e receber os preços mais recentes. Obrigado!

O seu nome*

O seu correio eletrónico*

O seu telefone*

Nome do produto*

País*

Brasil

Comentários

Gostaria de me inscrever na lista de correio eletrónico para receber actualizações da Stanford Advanced Materials.

Tipos de arquivos aceitos: PDF, png, jpg, jpeg. Carregue vários arquivos de uma vez; cada arquivo deve ter menos de 2 MB.

*Código de controlo

Parâmetro	Valor
Estrutura cristalina	Tetragonal
Constante de rede	a = 4,5936 Å, c = 2,9582 Å
Densidade	4,26 g/cm³
Ponto de fusão	1.870 °C
Dureza	7 (Mohs)

Parâmetro	Valor
Faixa de transmissão	0,5 – 4,5 µm
Índice de refração (a 1,3 µm)	no = 2,47, ne = 2,73
Coeficiente termo-óptico (/K)	a: -0,72×10⁻⁶, c: -0,42×10⁻⁶
Coeficiente de expansão linear (/K)	a: 7,14×10⁻⁶, c: 9,19×10⁻⁶

Parâmetro	Valor
Orientação	<001>, <110>, <100>, <111>
Método de crescimento	Método da chama, método da zona flutuante
Tamanhos padrão	5×5×10 mm, 5×10×10 mm, 10×10×0,5 mm, diâmetro 20×0,5 mm
Polimento	Polimento em um ou nos dois lados
Tolerância dimensional	+0,1 mm
Tolerância de orientação	±0,5°
Paralelismo	<30"
Planicidade	<λ/4
Perpendicularidade	<30"
Qualidade da superfície	10/5 (arranhões/marcas)

Parâmetro	Valor
Estrutura cristalina	Tetragonal
Constante de rede	a = 4,5936 Å, c = 2,9582 Å
Densidade	4,26 g/cm³
Ponto de fusão	1.870 °C
Dureza	7 (Mohs)

Parâmetro	Valor
Faixa de transmissão	0,5 – 4,5 µm
Índice de refração (a 1,3 µm)	no = 2,47, ne = 2,73
Coeficiente termo-óptico (/K)	a: -0,72×10⁻⁶, c: -0,42×10⁻⁶
Coeficiente de expansão linear (/K)	a: 7,14×10⁻⁶, c: 9,19×10⁻⁶

Region & Language

North America

South America

Europe

Asia Pacific

Middle-East

Substrato de cristal de dióxido de titânio rutilo (TiO2) CY2356

Propriedades do substrato monocristalino de TiO₂ rutílico

Especificações do substrato de cristal único de TiO₂ rutílico

Propriedades cristalinas e estruturais

Propriedades ópticas

Especificações do substrato

Aplicações do substrato de TiO₂ rutílico

Embalagem de substratos de TiO₂ rutílico

Especificação

Propriedades cristalinas e estruturais

Propriedades ópticas

Especificações do substrato

Caso

AVALIAÇÕES DOS CLIENTES

Comparar itens semelhantes

FAQ

P1: Quais são as principais aplicações dos substratos de TiO₂ monocristalino de rutilo?

P2: Quais orientações estão disponíveis para substratos de cristal único de TiO₂?

P3: Qual é a pureza dos seus substratos de TiO₂ monocristalinos?

P4: Posso solicitar dimensões ou orientações personalizadas?

P5: Como os substratos de TiO₂ devem ser armazenados e manuseados?

ÚLTIMAS RECOMENDAÇÕES

SOLICITAR UM ORÇAMENTO

Descarregar

PRECISA DE AJUDA?

CATEGORIAS POPULARES

NOSSA EMPRESA