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  • ST0227 Alvo de Sputtering de Carboneto de Silício (SiC)

    • ST0227 Alvo de Sputtering de Carboneto de Silício (SiC)

    Número de catálogo. ST0227
    Composição SiC
    Número CAS 409-21-2
    Pureza ≥99%
    Forma Discos ou feitos sob medida
    Sinônimos Alvo de pulverização de carboneto de silício, alvo de SiC

    Stanford Advanced Materials está na vanguarda das tecnologias de materiais avançados, oferecendo soluções inovadoras para os desafios industriais da atualidade. Nosso compromisso com a precisão e a qualidade garante que cada alvo de pulverização de carboneto de silício atenda a rigorosos padrões de desempenho.

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    Silicon Carbide (SiC) Sputtering Target
    Silicon Carbide (SiC) Sputtering Target
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    ST0227 Alvo de Sputtering de Carboneto de Silício (SiC)
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    Composição
    SiC
    Número CAS
    409-21-2
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou feitos sob medida
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de carboneto de silício, alvo de SiC
     
    ST0217 Alvo de Sputtering em Nitreto de Titânio (TiN)
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    Composição
    TiN
    Número CAS
    25583-20-4
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de nitreto de titânio, alvo de TiN
     
    ST11209 Alvo de pulverização de silício, alvo de Si
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    Composição
    Sim
    Pureza
    ≥99,99% ou sob medida
    Formulário
    Meta
    Forma
    Redondo, retangular
    Dimensões
    Personalizado

    FAQ

    Quais setores utilizam principalmente o alvo de pulverização de carboneto de silício?

    É amplamente utilizado na fabricação de semicondutores, em processos de revestimento de filmes finos e no desenvolvimento de dispositivos MEMS, bem como em aplicações de pesquisa e desenvolvimento.

    Para qual processo de pulverização catódica esse alvo foi projetado?

    O alvo foi projetado especificamente para processos de pulverização por RF, garantindo uma deposição uniforme e consistente.

    Por que o alto ponto de fusão de ~2730 ℃ é importante?

    O alto ponto de fusão garante que o alvo possa suportar ambientes térmicos intensos durante o processo de pulverização catódica, mantendo o desempenho e a estabilidade mesmo em condições extremas.

    Até que ponto as formas dos alvos de pulverização podem ser personalizadas?

    Os alvos podem ser fabricados na forma de discos padrão ou em formatos personalizados, para atender às necessidades específicas de equipamentos ou aplicações.

    Quais padrões de qualidade garantem o desempenho dessas metas?

    Cada alvo é produzido com pureza ≥99% e passa por rigorosas medidas de controle de qualidade, garantindo desempenho confiável e consistência para aplicações industriais avançadas.

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