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  • Alvo de Sputtering de Borreto de Titânio (TiB2) ST0300

    • Alvo de Sputtering de Borreto de Titânio (TiB2) ST0300

    Número de catálogo. ST0300
    Composição TiB₂
    Número CAS 12045-63-5
    Pureza ≥99%
    Forma Discos ou feitos sob medida
    Sinônimos Alvo de pulverização de boreto de titânio, alvo de TiB₂

    O alvo de pulverização de boreto de titânio (TiB₂) é reconhecido por seu desempenho excepcional e confiabilidade em processos de pulverização de alta exigência. Stanford Advanced Materials se dedica a fornecer soluções inovadoras em materiais com qualidade e precisão superiores, garantindo que nossos produtos atendam aos rigorosos padrões de aplicações industriais avançadas.

    Produtos relacionados: Alvo de pulverização de ferrita de titânio (TiFe₂O₄), alvo planar de siliceto de titânio, alvo de TiSi₂, alvo de titânio-silício, alvo de TiSi

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    Alvo de Sputtering de Borreto de Titânio (TiB2) ST0300
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    Composição
    TiB₂
    Número CAS
    12045-63-5
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou feitos sob medida
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de boreto de titânio, alvo de TiB₂
     
    BC1695 Boreto de titânio em pó (TiB2 em pó) (número CAS 12045-63-5)
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    Material
    TiB2
    Número CAS
    12045-63-5
    Aparência
    Pó cinza
    Ponto de fusão
    ~2.980 ℃
    Sinônimos
    Pó de boreto de titânio, pó de TiB₂
     
    ST0292 Alvo de Sputtering de Borureto de Cromo (CrB2)
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    Composição
    CrB₂
    Número CAS
    12007-16-8
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de boreto de cromo, alvo de CrB2
     
    ST0299 Alvo de Sputtering de Borato de Tântalo (TaB2)
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    Composição
    TaB₂
    Número CAS
    12007-35-1
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados

    FAQ

    Quais são as aplicações típicas de um alvo de pulverização de TiB₂?

    É amplamente utilizado na deposição de filmes finos de semicondutores, em revestimentos protetores avançados, na fabricação de componentes aeroespaciais e na fabricação de dispositivos eletrônicos.

    Por que um ponto de fusão elevado é importante para alvos de pulverização catódica?

    Um alto ponto de fusão garante que o alvo possa suportar o calor intenso gerado durante o processo de pulverização catódica sem comprometer sua integridade estrutural.

    Como é fabricado o alvo de pulverização de boreto de titânio (TiB₂)?

    É produzido por meio de técnicas avançadas de fabricação que garantem alta pureza e uma estrutura uniforme do material, fatores cruciais para um desempenho consistente na pulverização catódica.

    Em que consiste a pulverização por RF?

    A pulverização por RF utiliza energia de radiofrequência para gerar um plasma, facilitando a deposição de filmes finos mesmo em substratos isolantes.

    Existem formatos personalizados disponíveis para o alvo de pulverização TiB₂?

    Sim, nossos alvos de pulverização de boreto de titânio podem ser fabricados na forma de discos ou em formatos personalizados, de acordo com as necessidades específicas do cliente.

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