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  • ST0228 Alvo de Sputtering em Carbeto de Tântalo, TaC

    • ST0228 Alvo de Sputtering em Carbeto de Tântalo, TaC

    Número de catálogo. ST0228
    Fórmula química TaC
    Número CAS 12070-06-3
    Pureza 99.5%
    Forma Discos, placas, alvos de coluna, alvos de degrau, personalizados
    Sinônimos Alvo de pulverização de carbeto de tântalo, alvo de TaC

    O Alvo de Sputtering de Carbeto de Tântalo está disponível em várias formas, purezas, tamanhos e preços. Stanford Advanced Materials (SAM) oferece alvos de sputtering de carbeto de tântalo de alta qualidade a preços competitivos.

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    ST0228 Alvo de Sputtering em Carbeto de Tântalo, TaC
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    Fórmula química
    TaC
    Número CAS
    12070-06-3
    Pureza
    99.5%
    Forma
    Discos, placas, alvos de coluna, alvos de degrau, personalizados
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de carbeto de tântalo, alvo de TaC
     
    ST0048 Alvo de pulverização de tântalo (alvo de pulverização de Ta)
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    Material
    Ta≥99%, ou personalizado
    Forma
    Disco, planar ou personalizado
    Pureza
    ≥99%
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de tântalo, alvo de Ta
     
    ST0226 Alvo de Sputtering de Carbeto de Nióbio (NbC)
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    Composição
    NbC
    Número CAS
    12069-94-2
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
     
    ST0230 Alvo de Sputtering em Carboneto de Tungstênio (WC)
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    Composição
    WC
    Número CAS
    12070-12-1
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados

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    NB0036 Alvo de nióbio, alvo de Nb
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    Silver (Ag) Sputtering Target
    ST0046 Alvo de Sputtering de Prata (Ag)
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    Tantalum Sputtering Target
    ST0048 Alvo de pulverização de tântalo (alvo de pulverização de Ta)
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    País*

    Brasil

      Pureza

      99.9%

      • 99.9%
      • 99.5%
      • 99.99%
      • 99.999%
      • Other
      Diâmetro

      2''

      • 2''
      • 3''
      • 4''
      • 5''
      • 6''
      • Outros
      • Other
      Espessura

      0,25''

      • 0,25''
      • 0,125''
      • Todos
      • Other
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