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  • ST0228 Alvo de Sputtering em Carbeto de Tântalo, TaC

    • ST0228 Alvo de Sputtering em Carbeto de Tântalo, TaC

    Número de catálogo. ST0228
    Fórmula química TaC
    Número CAS 12070-06-3
    Pureza 99,5%
    Forma Discos, placas, alvos em coluna, alvos escalonados, feitos sob medida
    Sinônimos Alvo de pulverização de carboneto de tântalo, alvo de TaC

    O alvo de pulverização de carboneto de tântalo (TaC) é um alvo cerâmico para altas temperaturas conhecido por sua dureza excepcional, alto ponto de fusão e excelente resistência a choques térmicos, ataques químicos e desgaste. É utilizado para a deposição de filmes finos de TaC e revestimentos protetores por pulverização catódica, especialmente em aplicações que exigem estabilidade em altas temperaturas, dureza e resistência à corrosão. Os alvos de pulverização de carboneto de tântalo estão disponíveis em vários tamanhos, formatos e composições para atender a diferentes requisitos de revestimento e deposição. Dimensões e especificações personalizadas estão disponíveis mediante solicitação.

    Produtos relacionados: Alvo planar de carboneto de molibdênio, Alvo de carboneto de níquel, Alvo planar de carboneto de tântalo

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    ST0228 Alvo de Sputtering em Carbeto de Tântalo, TaC
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    Fórmula química
    TaC
    Número CAS
    12070-06-3
    Pureza
    99,5%
    Forma
    Discos, placas, alvos em coluna, alvos escalonados, feitos sob medida
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de carboneto de tântalo, alvo de TaC
     
    ST0048 Alvo de pulverização de tântalo (alvo de pulverização de Ta)
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    Material
    Ta ≥ 99% ou sob medida
    Forma
    Discos, planos ou feitos sob medida
    Pureza
    ≥99%
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de tântalo, alvo de Ta
     
    ST0226 Alvo de Sputtering de Carbeto de Nióbio (NbC)
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    Composição
    NbC
    Número CAS
    12069-94-2
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
     
    ST0230 Alvo de Sputtering em Carboneto de Tungstênio (WC)
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    Composição
    WC
    Número CAS
    12070-12-1
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados

    FAQ

    Quais formatos estão disponíveis para alvos de pulverização de carboneto de tântalo?

    As informações sobre o produto incluem discos, placas, colunas, degraus e formas personalizadas. A geometria final pode ser selecionada de acordo com o equipamento de pulverização catódica e a aplicação.

    Os alvos de pulverização TaC podem ser fornecidos com dimensões personalizadas?

    Sim. Formatos e dimensões personalizados estão listados como disponíveis. As dimensões necessárias devem ser confirmadas para o sistema de pulverização catódica pretendido.

    Qual é o grau de pureza disponível para o alvo de pulverização de TaC?

    As informações atuais sobre o produto indicam uma pureza de 99,5%. Especificações de pureza mais elevadas ou alternativas só devem ser mencionadas quando comprovadas pela documentação do fornecedor.

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