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  • Alvos de Sputtering de Silício (Si) ST0884, Não Doping

    • Alvos de Sputtering de Silício (Si) ST0884, Não Doping

    Número de catálogo. ST0884
    Composição Si
    Número CAS 7440-21-3
    Pureza ≥99%
    Forma Discos ou personalizados
    Sinônimos Alvo de pulverização de silício não dopado, alvo de Si não dopado

    A Stanford Advanced Materials é uma líder na produção de materiais de alto desempenho projetados para aplicações industriais avançadas. Nosso compromisso com a inovação e qualidade nos leva a fornecer alvos de sputtering confiáveis reconhecidos globalmente por sua excelência.

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    Silicon (Si) Sputtering Targets, Undoped
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    Alvos de Sputtering de Silício (Si) ST0884, Não Doping
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    Composição
    Si
    Número CAS
    7440-21-3
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de silício não dopado, alvo de Si não dopado
     
    ST0044 Alvo de Sputtering de Silício Tipo P (Si)
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    Composição
    Si
    Número CAS
    7440-21-3
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
    Diameter
    2“, 3”, 4“, 5”, 6" ou personalizado
    Thickness
    0,25“, 0,125” ou personalizado
    Bond Type
    Cobre ou personalizado
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de silício tipo P, alvo de Si tipo P
     
    ST6843 Alvos rotativos de silício, alvo de Si
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    Material
    Si
    Dimensões
    Personalizado
    Formulário
    Alvo rotativo ou personalizado
    Pureza
    ≥99,9%, ou personalizado
     
    ST11209 Alvo de pulverização de silício, alvo de Si
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    Composição
    Sim
    Pureza
    ≥99,99% ou sob medida
    Formulário
    Meta
    Forma
    Redondo, retangular
    Dimensões
    Personalizado

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    https://www.samaterials.com/images/sc/1768529895-normal-ST0007.jpg
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    sc/1747042841-normal-ST0013.jpg
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