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OP5084 Wafer de diamante para deposição química de vapor (CVD)

Número de catálogo. OP5084
Dimensões 10*10, 15*15, 20*20 (mm)
Método de crescimento Deposição de vapor químico por plasma de micro-ondas (MPCVD)

Wafer de Diamante CVD é um novo material com propriedades ópticas e térmicas excelentes. Stanford Advanced Materials (SAM) possui ampla experiência na fabricação e fornecimento de wafers de Diamante CVD de alta qualidade.

Produtos relacionados: Wafers de Tantalato de Lítio, Wafer de Carbeto de Silício, Silício Cristalino Infravermelho (Si Cristal), Wafer Epitaxial de Safira EPI

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Dimensões
10*10, 15*15, 20*20 (mm)
Método de crescimento
Deposição de vapor químico por plasma de micro-ondas (MPCVD)
 
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Material
Fluoreto de magnésio
Forma
Janelas em branco com haste ou prisma de lente com janelas personalizadas
Número CAS
7783-40-6
Densidade
3,177g/cm3
Sinônimos
Difluoreto de magnésio, Fluoreto de magnésio (II). Mol
Dimensões
0,5''-1'' Dia x 0,1-2mm T, e personalizado
 
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Material
Cristal de fluoreto de bário
Número CAS
7787-32-8
Forma
Haste Em branco Janelas ou Personalizar janelas
Densidade
4,89g/cm3
 
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