Óxido de ítrio e tântalo amorfo termicamente estável com baixa absorção de infravermelho para dispositivos magnetofotônicos

Título	Óxido de ítrio e tântalo amorfo termicamente estável com baixa absorção de infravermelho para dispositivos magnetofotônicos
Autores	Takuya Yoshimoto, Taichi Goto, Hiroyuki Takagi, Yuchi Nakamura, Hironaga Uchida, Caroline A. Ross, Mitsuteru Inoue
Revista	Relatórios científicos
data	10/23/2017
Doi	10.1038/s41598-017-14184-4
Introdução	Os materiais de óxido de filme fino geralmente exigem tratamento térmico de alta temperatura durante a preparação, o que limita a integração em dispositivos microeletrônicos ou ópticos. A manutenção das propriedades ópticas dos espelhos de Bragg acima de 700°C é um desafio devido às mudanças na estrutura cristalina. Este estudo apresenta um filme amorfo de ~100 nm de óxido de tântalo e óxido de ítrio com fração atômica de 14% de ítrio para tântalo, preparado por meio de pulverização catódica com magnetron. Ele apresenta alta resistência ao recozimento acima de 850°C, mantendo as propriedades ópticas. As estruturas eletrônica e cristalina, a estequiometria e as propriedades ópticas do filme são discutidas, juntamente com a integração com materiais magneto-ópticos. Incorporado a espelhos de Bragg com microcavidades de granada de ferro, ele aumenta significativamente a figura de mérito magneto-óptica nos comprimentos de onda do infravermelho próximo.
Citação	Takuya Yoshimoto, Taichi Goto e Hiroyuki Takagi et al. Óxido de tântalo ítrio amorfo termicamente estável com baixa absorção de IR para dispositivos magnetofotônicos. Sci Rep. 2017. Vol. 7. DOI: 10.1038/s41598-017-14184-4
Elemento	Oxigênio (O) , Tântalo (Ta) , Ítrio (Y)
Materiais	Óxidos
Indústria	Ótica