DP3323 Pó Esférico de Ligas de Alta Entropia (HEAs) FeCrCuTiV

Pó Esférico de Ligas de Alta Entropia FeCrCuTiV (HEAs) Descrição

Pó Esférico de Ligas de Alta Entropia FeCrCuTiV (HEAs) é um novo tipo de liga, com desempenho muito singular. Os diferentes tamanhos e forças de ligação entre os elementos causam distorção da rede e efeitos de difusão lenta na liga. Pesquisas atuais mostram que o Pó Esférico de Ligas de Alta Entropia FeCrCuTiV (HEAs) apresenta excelente propriedades mecânicas, resistência à corrosão, resistência ao desgaste, propriedades magnéticas, resistência à radiação e propriedades em baixas temperaturas. Atualmente, cada vez mais pesquisadores, tanto nacionais quanto internacionais, estão se concentrando nesse material.

Especificação do Pó Esférico de Ligas de Alta Entropia FeCrCuTiV (HEAs)

Características do Pó Esférico de Ligas de Alta Entropia FeCrCuTiV (HEAs)

- Pó esférico;

- Superfície lisa;

- Baixo teor de oxigênio;

- Distribuição uniforme do tamanho das partículas;

- Boa fluidez;

- Alta densidade de densidade solta e de vibração.

Aplicações do Pó Esférico de Ligas de Alta Entropia FeCrCuTiV (HEAs)

Processos Aplicáveis:

- Fabricação aditiva com feixe de laser/elettrônico (SLM/EBM)

- Moldagem por injeção (MIM)

- Prensagem isotática a quente (HIP)

- Metalurgia do pó (PM)

- Pulverização (SP) e outros processos.

Equipamentos Aplicáveis:

Pode ser utilizado em diversos impressoras 3D de pó metálico

- Renishaw

- EOSINT M series

- Concept Laser

- Equipamentos de fusão a laser da 3D system.

Aplicação: O Pó Esférico de Ligas de Alta Entropia FeCrCuTiV (HEAs) é amplamente utilizado em partes de aeronaves e automóveis, pulverização de superfícies de perfis, metalurgia do pó, energia nuclear e setores industriais.

Embalagem do Pó Esférico de Ligas de Alta Entropia FeCrCuTiV (HEAs)

Nosso Pó Esférico de Liga de Alta Entropia FeCrTiCuV (HEA) é cuidadosamente tratado para evitar danos durante o armazenamento e transporte, preservando a qualidade do nosso produto em sua condição original.