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Descontinuado IF5732 (Descontinuado) Forno Rotativo de CVD Assistido por Plasma Micro-ondas 1200C GSL-1200R-MWPE

Número de catálogo. IF5732
Número do item GSL-1200R-MWPE
Temperatura operacional ≤1100℃ contínuo

Descontinuado

Forno Rotativo MPCVD Assistido por Plasma Micro-ondas a 1200C é um forno rotativo de Deposição Química a Vapor (CVD) assistido por micro-ondas, com um gerador de micro-ondas de 2,45 GHz em conjunto com um tubo de processamento rotativo de 2 polegadas que opera a 0-5 rpm. Stanford Advanced Materials (SAM) possui vasta experiência na fabricação e fornecimento de Fornos Rotativos de alta qualidade.

Produtos relacionados: Forno de Câmara a Vácuo 1100C VBF-1200X-H8, Forno a Vácuo Grande a 500C com Bomba a Vácuo e Resfriador de Água DZF-6090-HT, Forno a Vácuo Carregamento Inferior a 1200C com Resfriamento Rápido VBF-1200X-E8, Forno de Alta Vacuidade a Câmara a 800C VBF-800X-H

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